[实用新型]防静电光罩有效
| 申请号： | 201020301094.3 | 申请日： | 2010-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN201607608U | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 杜武兵 | 申请（专利权）人： | 深圳市路维电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08 |
| 代理公司： | 深圳市维邦知识产权事务所 44269 | 代理人： | 黄莉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 静电 | ||
1.一种防静电光罩，包括覆盖有金属铬层的苏打玻璃，所述金属铬层蚀刻有光罩图形，其特征在于：绕该光罩边缘的金属铬层表面设置有一放电环，该放电环通过设置在所述金属铬层的静电导引线连接到光罩图形，而该放电环的首尾通过两组相对设置的放电端子对接，每组放电端子由若干以预设的间隔并排设置的放电端子构成。
2.如权利要求1所述的防静电光罩，其特征在于：同一组放电端子中每个放电端子间的间隔及单个放电端子的宽度均小于所述光罩图形的最小线宽。
3.如权利要求2所述的防静电光罩，其特征在于：所述两组放电端子间的相对距离不超过每个放电端子宽度的二分之一。
4.如权利要求3所述的防静电光罩，其特征在于：所述静电导引线的宽度小于制造所述光罩图形所采用的微影蚀刻工艺的最小精度。
5.如权利要求1-4中任一项所述的防静电光罩，其特征在于：所述放电环为黑色的矩形环，其环边宽为8-10厘米。
6.如权利要求1所述的防静电光罩，其特征在于：在光罩图形之间的空白区域还设置有放电组，所述放电组包括有四个排列成矩阵状的环矩形放电体，每个放电体上设置有两个相互垂直的放电尖角，所述放电尖角分别从所述放电体相邻的两边朝外延伸，且每个放电尖角与其相邻放电体的一个放电尖角相对设置。
7.如权利要求6所述的防静电光罩，其特征在于：所述环矩形的外环宽度小于制造所述光罩图形所采用的微影蚀刻工艺的最小精度。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
