[实用新型]触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及激光加工领域，特别是涉及一种触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备。 

背景技术

ITO薄膜即氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)透明导电膜玻璃，广泛用于液晶触摸屏、显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。 

触摸屏在各行各业的应用越来越广泛，传统的触摸屏ITO薄膜主要采用化学蚀刻的方法生产。但随着苹果iphone中电容式多点触控技术的出现和Window7等操作系统对多点触控的支持，已经引发触摸屏的革命性变革，传统的化学蚀刻方法在加工精度(包括线性精度和线宽精度)和加工的效率以及良品率都无法满足要求。 

激光具有高相干性、高方向性和高强度的特点，容易获得很高的光通量密度，将强的激光束聚焦到介质上，利用激光束与物质相互作用的过程来改变物质的性质，这就是激光加工。激光加工技术随着光学、机电、材料、计算机和控制技术的发展已经逐步发展成为一项新的加工技术。激光加工具有加工对象广、变形小、精度高、节省能源、公害小、远距离加工和自动化加工等显著优点，对提高产品质量和劳动生产率、实现加工过程自动化、减少或消除污染、减少材料消耗等的作用愈来愈重要。 

专利号为CN200720171149.1的一种ITO薄膜激光蚀刻机，包括机架、工控机、显示系统、激光发生器、切割头、吸附盘、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统，所述工控机、激光发生器、显示系统和Z轴运动系统都安装在机架上，所述切割头安装在Z轴运动系统上，所述吸附盘固定在X轴运动系统上，位于Y轴运动系统的上方，所述X轴运动系统安装在Y轴运动系统上，并交叉呈十字状，Y轴运动系统固定安装在机架上，本实用新型对ITO薄膜的刻线效率高、线性好，能够对大尺寸的ITO薄膜进行激光蚀刻。 

但由于专利号为CN200720171149.1的ITO薄膜激光蚀刻机，其吸附盘固定在X轴运动系统上，X轴运动系统安装在Y轴运动系统上，而X轴运动系统和Y轴运动系统由直线电机驱动，吸附盘、X轴运动系统和Y轴运动系统的质量较大，惯性也大，直线电机带动吸附盘上的ITO薄膜运动刻线，其刻线速度因为吸附盘、X轴运动系统和Y轴运动系统的质量较大、惯性大而受影响，所以刻线速度慢，效率低；另外，因为吸附盘、X轴运动系统和Y轴运动系统的质量较大、惯性大，在刻线过程中振动也大，刻线的稳定线也受到影响，所刻的线宽不均匀。 

发明内容

本实用新型的目的是提供一种触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，此触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，刻蚀速度快，效率高，所刻线宽均匀。 

为了达到上述目的，本实用新型的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，包括机架、控制系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台，控制系统、显示系统、升降机构和吸附平台都安装在机架上，激光发生器安装在升降机构上，其特征在于：还包括二维振镜头和F-θ透镜组，二维振镜头安装在升降机构的升降架上，F-θ透镜组安装在二维振镜头下部。 

如上所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于：升降机构包括电动机、蜗轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架，电动机的输出轴与蜗轮蜗杆减速机的输入轴联接，蜗轮蜗杆减速机的输出轴与丝杆运动副的丝杆联接，丝杆运动副的螺帽与升降架联接，直线导轨运动副的导轨安装在与机架相联的联接板上，直线导轨运动副的滑块与升降架相联接。升降机构的作用是用来调节F-θ透镜组与吸附平台上ITO薄膜的距离，使经过F-θ透镜组的激光光束聚焦后其焦点落在ITO薄膜上。 

如上所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于：升降机构包括手轮、蜗轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架，手轮与蜗轮蜗杆减速机的输入轴联接，蜗轮蜗杆减速机的输出轴与丝杆运动副的丝杆联接，丝杆运动副的螺帽与升降架联接，直线导轨运动副的导轨安装在与机架相联的联接板上，直线导轨运动副的滑块与升降架相联接。升降机构的作用是用来调节F-θ透镜组与吸附平台上ITO薄膜的距离，使经过F-θ透镜组的激光光束聚焦后其焦点落在ITO薄膜上。 

如上所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于：还包括二维运动系统，二维运动系统由X轴运动系统和Y轴运动系统组成，X轴运动系统安装在Y轴运动系统上，X轴运动系统和Y轴运动系统呈交叉十字状，二维运动系统安装在机架上，吸附平台安装在二维运动系统上。