[实用新型]一种封装器件整形装置有效
申请号: | 201020520189.4 | 申请日: | 2010-09-01 |
公开(公告)号: | CN201820743U | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 张庆洪;陈瑕;吴先初;陈国盛 | 申请(专利权)人: | 厦门华联电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
代理公司: | 厦门市诚得知识产权代理事务所 35209 | 代理人: | 戚东升 |
地址: | 361000 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 封装 器件 整形 装置 | ||
1.一种封装器件整形装置,其特征在于:包括下料轨道、成型模具组件、机架及位置传感器,其中:
下料轨道,输送封装器件至成型模具组件的整形区,完成整形后沿该轨道向下输送;
成型模具组件,由两部分对称设置于下料轨道两侧并可合模或分模以完成下料轨道上封装器件的整形,上述成型模具组件固定于机架上;
位置传感器,位于成型模具组件的整形区内,检测下料轨道上封装器件相对于成型模具组件的位置,当位置传感器检测到整形区中封装器件的位置无误后进行整形工序。
2.根据权利要求1所述的封装器件整形装置,其特征在于:所述的位置传感器为两组,通过两组传感器检测到封装器件的位置信号并输送到中央控制器,该中央控制器同时控制成型模具组件合模或分模以进行封装器件的整形工序:如果两组传感器信号与中央控制器预先设置的参数一致则进行下一步操作。
3.根据权利要求2所述的封装器件整形装置,其特征在于:所述的中央控制器为PLC可编程序控制器。
4.根据权利要求1所述的封装器件整形装置,其特征在于:所述的下料轨道为开放式导槽。
5.根据权利要求1所述的封装器件整形装置,其特征在于:所述的成型模具组件包括整形汽缸、直线导轨、滚珠滑块和成型模具,成型模具固定于滚珠滑块上,滚珠滑块另端与整形汽缸连接,上述整形汽缸、滚珠滑块和成型模具为两组,对称的设置于下料轨道两侧,滚珠滑块沿直线导轨作伸缩动作使成型模具合模或分模,且整形汽缸受驱动于PLC可编程序控制器。
6.根据权利要求5所述的封装器件整形装置,其特征在于:所述的成型模具包括一对成型刀具,其设置于下料轨道两侧,一对成型刀具配合完成整形工序。
7.根据权利要求1所述的封装器件整形装置,其特征在于:所述下料轨道末端还设有下料检测传感器,其检测信号输送到PLC可编程序控制器。
8.根据权利要求1或7所述的封装器件整形装置,其特征在于:所述的下料轨道上设有两挡块及驱动汽缸,其一挡块设置于下料轨道进入整形区的轨道上,用于限制封装器件依次逐个进入到整形区进行整形,另一挡块用于限制整形区内封装器件的位置,以使成型模具配合完成整形操作;上述的驱动汽缸由PLC可编程序控制器控制。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门华联电子有限公司,未经厦门华联电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020520189.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种井下仪器维护、刻度系统
- 下一篇:改良的水基隔热流体及相关方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造