[实用新型]单层引线框架整流器无效

专利信息
申请号: 201020522079.1 申请日: 2010-09-08
公开(公告)号: CN201788968U 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: 俞建;赵强;李治刿;李驰明;范德忠;魏广乾 申请(专利权)人: 四川太晶微电子有限公司
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H01L29/06;H01L29/417;H01L23/495
代理公司: 成都虹桥专利事务所 51124 代理人: 李顺德
地址: 629000 四川省遂宁市经济技术*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单层 引线 框架 整流器
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及电子器件,特别涉及一种半导体整流器。

背景技术

整流器,特别是半导体整流器,是电子技术中应用非常广泛的电子器件。半导体整流器一般由二极管构成,一只整流器通常采用4只二极管连接成桥式整流电路构成。在半导体制造工艺中,封装在一起的4只二极管由4只半导体芯片(简称为芯片)构成,每只芯片包括P型半导体和N型半导体两种材料类型,其接触区就是PN结,是二极管实现其功能(单向导电性)的所在。图1示出了现有技术的整流器管芯结构示意图,可以看出,整流器的管芯结构层次依次为:引线框架(电极的连接线)1、电极23、芯片20、电极24、引线框架1和基片3,所有芯片布置在芯片层2中,如图1所示。现有技术的PN结是在一块本征半导体芯片20正面和背面掺不同的杂质,使其一面形成为P型半导体21,另一面形成为N型半导体22,在P型半导体21和N型半导体22交界处就形成了一个PN结。为了满足二极管的电性能要求,芯片20厚度d一般要达到0.25~0.27mm。图1中P型半导体21的电极23、N型半导体22的电极24分别从芯片20的正面和背面引出,并各自与位于同一面的引线框架1连接,从而将4只二极管(图1中仅示出了2只)连接成桥式整流电路。由图1可见,现有技术整流器有两层引线框架,其与电极的连接约占0.5mm的空间(见图1中的h所示),整流器管芯厚度为2h+D,由于D≥0.25mm,所以管芯厚度至少为1.25mm。

现有技术的整流器存在的主要缺点是:由于采用芯片两面扩散的工艺形成PN结,芯片两面都有电极和引线框架,管芯厚度较大,不利于器件的小型化,芯片与外侧散热片之间距离较大,芯片热阻大,散热效果不好。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题,就是针对现有技术整流器厚度大不利于小型化的缺点,提供一种采用平面PN结结构的整流器,降低整流器管芯厚度,提高器件的小型化水平并改善芯片散热效果。

本实用新型解决所述技术问题,采用的技术方案是,单层引线框架整流器,包括引线框架,电极、4只芯片和基片,每只芯片包括相交的P型半导体和N型半导体,所述P型半导体和N型半导体分别通过电极与引线框架连接,4只芯片连接成桥式整流电路,其特征在于,每只芯片中P型半导体和N型半导体均位于芯片正面,4只芯片正面朝上,所有电极位于芯片正面并与引线框架连接,4只芯片背面位于同一平面并直接与基片相连。

具体的,所述基片为芯片背面的一层绝缘层。

进一步的,所述绝缘层背面有金属膜,所述金属膜上覆盖有散热片。

具体的,所述散热片为无氧铜片。

本实用新型的有益效果是,芯片背面没有电极和引线框架,降低了整流器的厚度,方便进行绝缘和金属化封装。由于芯片直接与基片接触,缩短了芯片与外侧散热片之间的距离,降低了芯片散热的热阻,提高了散热效果。

附图说明

图1是现有技术整流器结构示意图;

图2是实施例的示意图;

图3是引线框架与芯片连接关系示意图;

图4是整流器电路原理图。

其中:1为引线框架;2为芯片层;3为基片(或绝缘层);4为金属膜;5为散热片;11为塑封层;20为芯片;21为P型半导体;22为N型半导体;23、24为电极;D1、D2、D3、D4为二极管;O、P为桥式整流电路的直流输出端;X、Y为桥式整流电路的交流输入端。

具体实施方式

下面结合附图及实施例,详细描述本实用新型的技术方案。

本实用新型单层引线框架整流器,采用4只芯片接成桥式整流电路,每只芯片的PN结都是在一片P型(或N型)半导体芯片正面,扩散N型杂质(或P型杂质)构成。本实用新型的整流器,芯片背面没有电极和引线框架,可以在纯平面的芯片背面沉积一层硅绝缘层作为基片,并进行金属化处理形成一层金属膜,然后再在金属膜上焊接一片无氧铜片作为散热片进行主动散热,芯片与散热铜片结合紧密(忽略绝缘层的厚度),既简化了生产流程,又提高了散热能力。

实施例1

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川太晶微电子有限公司,未经四川太晶微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020522079.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top