[实用新型]真空磁控溅射镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜机，尤其涉及一种真空磁控溅射镀膜机。

背景技术

目前，真空磁控溅射镀膜机是用于表面处理PVD膜层的专用设备，膜层颗粒细腻，光泽度和金属质感强，防腐性能好，可在低温状态下进行镀膜，现有技术的真空磁控溅射镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的磁控溅射装置，现有技术的磁控溅射装置包括与真空室体固定连接的磁控靶法兰、与磁控靶法兰固定连接并置于真空室中的磁铁、磁控靶阴极板、靶材等，其存在的缺点是磁控溅射装置在工作过程中会产生大量的热能，如果温度过高，会使镀膜膜层颗粒变大，并且温度过高会使靶材破裂，会影响产品镀膜质量。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题就是克服现有技术的不足，提供一种冷却效果好、镀膜质量稳定的真空磁控溅射镀膜机。

本实用新型所采用的技术方案是：真空磁控溅射镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的磁控溅射装置，磁控溅射装置包括与真空室体固定连接的磁控靶法兰、与磁控靶法兰固定连接并置于真空室中的铁轭、磁铁、磁控靶阴极板、靶材，磁控溅射装置还包括冷水套、进水道座和出水道座，进水道座和出水道座与磁控靶法兰固定连接，冷水套固设在进水道座和出水道座的里端，铁轭、磁铁、磁控靶阴极板、靶材依次固定在冷水套上，在冷水套和磁控靶阴极板之间构成冷却水通道。

本实用新型有益的技术效果是：由于在磁控溅射装置中设有冷却装置，冷却水通道设在冷水套和磁控靶阴极板之间，对靶材和磁铁进行冷却，具有冷却效果好的优点，进而保证镀膜质量。

附图说明

图1：为本实用新型的结构示意图；

图2：为图1的左视图；

图3：为磁控溅射装置的结构示意图；

图4：为图3的俯视图(拆去磁控靶阴极板、靶材)。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述：

如图所示，真空磁控溅射镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门1、设置在真空室中的工件转架2以及设置在真空室体9上的磁控溅射装置3，磁控溅射装置3包括与真空室体9固定连接的磁控靶法兰10、与磁控靶法兰10固定连接并置于真空室中的铁轭11、磁铁12、磁控靶阴极板13、靶材14，磁控溅射装置3还包括冷水套15、进水道座16和出水道座17，进水道座16和出水道座17中分别设有进水口19和出水口20，进水道座16和出水道座17与磁控靶法兰10固定连接，冷水套15固设在进水道座16和出水道座17的里端，铁轭11、磁铁12、磁控靶阴极板13、靶材14依次固定在冷水套15上，在冷水套15和磁控靶阴极板13之间构成冷却水通道18。值得一提的是，根据靶材14材质的不同，磁控靶阴极板13可以直接用靶材14代替，冷却水直接与靶材14接触，冷却效果更好。在真空室门1上设有观察窗8，便于观察镀膜状况。

所述的磁铁12为若干条一字型间隔排列的条形永磁体21，条形永磁体21为高强磁的杉钴磁铁。本实施例设为间隔相等的3条一字型排列的条形永磁体，形成闭合磁场，可提高溅射速度，缩短成膜时间，从而提高工作效率。

所述的磁控靶阴极板13、磁控靶法兰10、冷水套15、进水道座16和出水道座17由不锈钢制成。比现有技术采用铝合金材料相比，具有致密度高，放气量少，而且使用寿命长的优点。

所述的真空抽气系统包括低真空抽气装置和高真空抽气装置。所述的低真空抽气装置包括罗茨真空泵5和机械真空泵7，高真空抽气装置包括维持真空泵6和扩散真空泵4。其工作过程如下：先开启罗茨真空泵5和机械真空泵7，进行低真空抽气，待真空度抽至一定程度时，进入高真空抽气，由维持真空泵6和扩散真空泵4进行抽气，待真空室的真空度抽气到8.0×10^-3Pa时，利用磁控溅射装置3对装载在工件转架2上的镀膜产品进行溅射镀膜。