[实用新型]铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置无效
| 申请号： | 201020549848.7 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN201793786U | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 周晓波;孟社超;周建新;柴云;邵管民;杭海江;贾永良 | 申请（专利权）人： | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 |
| 主分类号： | C25D7/06 | 分类号： | C25D7/06 |
| 代理公司： | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人： | 时立新 |
| 地址： | 472500 *** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铜箔 表面 处理 系统 中的 溶液 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置，包括溶液槽，溶液槽内放置有液下辊，液下辊两边分别设置有第一阳极板和第二阳极板，溶液槽外部上端一端为导电辊，另一端为钢辊，其特征在于：所述溶液槽内放置的液下辊数量为一个。
2.根据权利要求1所述的铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置，其特征在于：所述第一阳极板的方向与导电辊与液下辊连接线的方向相同，并且有第一间距。
3.根据权利要求1所述的铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置，其特征在于：所述第二阳极板的方向与钢辊与液下辊连接线的方向相同，并且有第二间距。
4.根据权利要求2或3所述的铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置，其特征在于：所述的第一间距或第二间距为3～3.5cm。
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