[实用新型]蒸镀源喷嘴

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种蒸镀源喷嘴，尤其涉及一种真空蒸镀装备中的线性蒸镀源喷嘴。

背景技术

蒸镀源喷嘴用于真空蒸镀设备中，用于在蒸镀基板上喷射形成连续且均匀的薄膜。一般的蒸镀方法是：将蒸镀材料置于一个蒸镀容器，再将该蒸镀容器置于某种加热器中，加热器通过对蒸镀容器进行加热，从而达到在被蒸镀的基板上形成薄膜层的目的。如图1，公开号为CN 1795537A的中国专利申请揭示了一种被广泛使用的点状蒸镀源及其蒸镀情况。点状蒸镀源适于在小面积范围内形成较为均匀的薄膜。对于大面积蒸镀而言，点状蒸镀源无法满足薄膜层的整体均匀性。随着离中心蒸镀点距离的增加，边缘处的薄膜厚度下降明显。在许多功能器件的制备中，一般希望薄膜层厚度的不均匀性被控制在3％以内。因此，如果采用点状蒸镀源，薄膜的均匀性面积受将到很大限制。

为了制备大面积均匀薄膜，人们改用线性蒸镀源。如图2，公开号为CN101182627A的中国专利申请揭示了采用线性蒸镀源进行薄膜蒸镀的示意图。线性蒸镀源适于形成连续大面积薄膜。然而，这种简单的等宽喷口设计，虽然与点状蒸镀源相比，已经扩大了薄膜的均匀性宽度和面积，但仍然造成边缘薄膜的厚度与中心薄膜的厚度有很大的差别。

为此，小田敦等人，对上述线性蒸镀源的喷口设计进行了改进。图3揭示了一种经过改进的线性蒸镀源的示意图(同样见CN 101182627A)。同时，李宰卿等人，也实用新型了经过改进的线性蒸镀源(同样见CN1795537A)，具体如图4所示。这些经过改进的蒸镀源，通过由中心向外的渐密式喷口设计或渐开式喷口设计，可以进一步改善被蒸镀薄膜的均匀性。

线性蒸镀源镀膜的均匀宽度(这里设定为对应于薄膜厚度误差为3％的宽度)，对镀膜基板的宽度有直接影响，同时对蒸镀设备的体积大小也有重要影响。为了满足一定的基板宽度，线性蒸镀源镀膜均匀宽度的增大，可使线性蒸镀源的尺寸减小，同时，使蒸镀设备的尺寸也可以相应减小，从而有效降低设备成本，并提高对蒸镀材料的有效利用率。经分析，上述改进的线性蒸镀源，其镀膜均匀宽度(2Do)与线性蒸镀源长度(2L)之比(Do/L)，一般难以达到0.5。换言之，上述改进的线性蒸镀源的长度一般大于薄膜基板的两倍。由此导致蒸镀材料的浪费、生产装备尺寸的相应扩大、以及设备造价的提高等。

因此，为了降低蒸镀设备的制造成本，有效提高蒸镀材料的利用率，十分有必要对线性蒸镀源的喷口形状进行优化设计。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型目的在于提供一种蒸镀材料利用率高的蒸镀源喷嘴。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种蒸镀源喷嘴，包括主体，位于主体中的喷射源，位于主体上的长形的喷射板，所述喷射板上设有开口，开口控制主体中喷射源的出射范围，开口包括位于纵长方向两端的两个端部，和位于开口纵长方向中间位置的中心部，以及分别位于中心部和两个端部之间的两个过渡部，所述开口在中心部的宽度和在端部的宽度大于在过渡部的宽度。

进一步的，所述开口具有垂直于纵长方向的中轴线，该中轴线为开口的对称轴。

进一步的，所述开口由位于两个端部之间的菱形孔和位于端部和中心部的矩形孔叠合组成，所述菱形孔的最大宽度小于矩形孔的宽度。

进一步的，所述开口由位于两个端部之间的矩形槽和位于端部和中心部的矩形孔叠合组成，所述两个端部之间的矩形槽的宽度小于位于端部和中心部的矩形孔的宽度。

进一步的，所述开口由位于两个端部之间的菱形孔、位于端部的三角孔和中心部的矩形孔叠合组成，所述菱形孔的最大宽度小于端部的宽度。

进一步的，所述开口由位于两个端部之间的菱形孔和位于两个端部的圆形孔叠合组成，所述菱形的宽度小于圆形的直径。

进一步的，所述中心部还具有圆形孔。

进一步的，所述开口由若干个间隔分布的圆形小孔组成，所述端部和中部的宽度方向上圆形小孔数量多于过渡部分的宽度方向上的小孔数量。

进一步的，所述过渡部分由沿直线间隔分布的圆形小孔组成，所述端部和中心部为椭圆形孔，所述椭圆形孔德宽度大于圆形小孔的宽度。

进一步的，所述过渡部分上还设有副开孔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过将端部和中心部的开孔宽度设置的大于其他部位开孔宽度，将镀膜均匀宽度(2Do)与线性蒸镀源长度(2L)之比(Do/L)，即均匀宽度比，由现有技术不超过0.5提高到大于0.8。

附图说明

图1是现有技术的常用的点状蒸镀源示意图。

图2是现有技术的线性蒸镀源示意图。