[实用新型]一种低剖面二维调整平台无效

专利信息
申请号: 201020668605.5 申请日: 2010-12-20
公开(公告)号: CN201988848U 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 钱刚祥;陈力;翟骥 申请(专利权)人: 无锡荣兴科技有限公司
主分类号: B23K26/42 分类号: B23K26/42
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 殷红梅
地址: 214028 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 剖面 二维 调整 平台
【权利要求书】:

1.一种低剖面二维调整平台,其特征在于:它包括矩形滑台(2)、矩形固定框座(1)、导向件(4)、X向调节旋钮(5)、Y向调节旋钮(6)和弹簧(3);

所述矩形滑台(2)的四侧边上设有导槽,矩形滑台(2)设置在矩形固定框座(1)内;

所述矩形固定框座(1)的其中两个相邻边框上分别开有导向孔,两个导向件(4)分别设置在该两个相邻边框与矩形滑台(2)之间,导向件(4)的导向轴(41)插设在边框上的导向孔内,导向件(4)的导轨(42)与矩形滑台(2)侧边上的导槽对应配合,导向轴(41)上套装弹簧(3),弹簧(3)两端分别压紧边框内侧与导轨(42)后侧;

所述矩形固定框座(1)的另外两个相邻边框上分别开有X向调节螺孔、Y向调节螺孔,X向调节旋钮(5)、Y向调节旋钮(6)分别螺装在X向调节螺孔、Y向调节螺孔内,X向调节旋钮(5)、Y向调节旋钮(6)的内端顶在矩形滑台(2)侧边上的导槽内。

2.如权利要求1所述的低剖面二维调整平台,其特征在于:所述矩形滑台(2)侧边上的导槽横截面的形状为V形、U形或矩形,导向件(4)的导轨(42)的形状与导槽相适配。

3.如权利要求1所述的低剖面二维调整平台,其特征在于:所述X向调节旋钮(5)和Y向调节旋钮(6)的内端部设为球形。

4.如权利要求1所述的低剖面二维调整平台,其特征在于:所述X向调节旋钮(5)与X向调节螺孔之间、Y向调节旋钮(6)与Y向调节螺孔之间均采用细牙螺纹配合。

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