[实用新型]降低高频损耗的高频晶体管无效

专利信息
申请号: 201020672526.1 申请日: 2010-12-21
公开(公告)号: CN201994301U 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 刘翠莲 申请(专利权)人: 深圳市安晶半导体电子有限公司
主分类号: H01L29/72 分类号: H01L29/72;H01L29/43
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 降低 高频 损耗 晶体管
【说明书】:

【技术领域】

实用新型涉及一种微电子元器件,更具体地说,涉及一种降低高频损耗的高频晶体管。

【背景技术】

传统的晶体管,由于金的电导率高、物理化学性质相对稳定,易于淀积电镀,与其他金属的热匹配较好,因此常用来作为晶体管芯片的背金材料,即在外延片背面采用蒸发、溅射等方法背金。虽然金与硅的结合产生的接触电阻已很小,但是超高频晶体管由于其高频特性的特殊需要,要求各个结之间的接触电阻、接触电容等越小越好,单纯金材料不是背金材料的最佳选择。所述现有技术的缺陷值得改进。

【实用新型内容】

本实用新型的目的在于针对上述技术缺陷,提供一种降低高频损耗的高频晶体管,该一种高频晶体管可降低晶体管的高频损耗、提高高频特性。

本实用新型的技术方案如下所述:一种降低高频损耗的高频晶体管,包括外延片,其特征在于:所述外延片背面设有背金层,所述背金层包括金属Pt层、Ni层、Cr层、W层、Au层。

根据上述结构的本实用新型,其特征还在于,所述由Pt层、Ni层、Cr层、W层、Au层所形成的背金层的总厚度为1±0.17μm。

根据上述结构的本实用新型,其特征还在于,所述外延片与背金层总厚度小于120微米。

根据上述结构的本实用新型,其有益效果在于,本实用新型经超减薄后采用五层金属依次溅射在外延片背面,在构成外延片的Si(硅)层、Pt(铂)层、Ni(镍)层、Cr(铬)层、W(钨)层、Au(金)层中,相邻层材料之间具有良好的匹配性,可以相互之间的接触电阻达到最小,最终导致整体的接触电阻都较小,可降低晶体管的高频损耗,提高高频特性。本实用新型广泛应用在微电子电路中,能耗低,寿命长。

【附图说明】

附图1为本实用新型结构示意图。

在附图中,1、外延片;2、Pt层;3、Ni层;4、Cr层;5、W层;6、Au层。

【具体实施方式】

下面结合附图以及实施方式对本实用新型进行进一步的描述:

如附图1所示,一种降低高频损耗的高频晶体管,包括外延片1,其特征在于,所述外延片1背面由内到外依次设有由Pt(铂)层2、Ni(镍)层3、Cr(铬)层4、W(钨)层5、Au(金)层6共五层的背金层,所述由Pt、Ni、Cr、W、Au所形成的背金层的总厚度为1±0.17μm,外延片经超减薄处理,处理后所述外延片1与背金层总厚度小于120微米,将五种金属依次蒸发、溅射在外延片1杯背面。

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