[实用新型]化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积设备，包括：反应腔室和设置于所述反应腔室内的加热台，其特征在于，还包括高度调节装置，所述高度调节装置包括支撑装置和用以调节所述支撑装置高度的调节装置，所述支撑装置包括支撑端和连接端，所述支撑端穿过所述反应腔室，并位于所述反应腔室的底壁和所述加热台之间，所述连接端固定在所述调节装置上，所述调节装置固定在所述反应腔室的外表面。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述高度调节装置与所述反应腔室之间通过一密封装置密封连接。

3.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述密封装置为动态金属密封圈。

4.如权利要求1至3中的任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述支撑装置为陶瓷杆。

5.如权利要求1至3中的任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述支撑端穿过所述反应腔室的底壁。

6.如权利要求1至3中的任一项所述化学气相沉积设备，其特征在于，所述调节装置为螺母调节装置。

7.如权利要求1至3中的任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述高度调节装置的数量为多个。

8.如权利要求7所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述高度调节装置的数量为三个，三个所述高度调节装置的支撑端呈三角形分布。