[实用新型]曝光装置有效

专利信息
申请号: 201020685756.1 申请日: 2010-12-28
公开(公告)号: CN201917775U 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 董云 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,其特征在于,包括两个基台和基台位置互换机构,所述基台位置互换机构用于互换两个基台的位置。

2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述基台位置互换机构包括:基台支撑体和控制基台支撑体升降的升降机构,所述升降机构控制所述基台支撑体上升至支撑起两个基台,并旋转180度,使两个基台互换位置,所述升降机构控制所述基台支撑体下降至脱离两个基台。

3.根据权利要求2所述的曝光装置,其特征在于,所述曝光装置还包括用于分别支撑所述两个基台的两个平行设置的第一导轨和用于支撑所述两个平行设置的第一导轨的平行设置的两个第二导轨,所述第一导轨垂直设置在所述第二导轨上。

4.根据权利要求3所述的曝光装置,其特征在于,所述基台支撑体的旋转由线性马达驱动。

5.根据权利要求2至4任一项所述的曝光装置,其特征在于,所述升降机构为气缸或者为液压结构,或者为机械升降结构。

6.根据权利要求2至4任一项所述的曝光装置,其特征在于,所述升降机构控制所述基台支撑体上升至支撑起两个基台为:所述升降机构控制所述基台支撑体上升至与所述基台咬合固锁,并继续控制所述基台支撑体上升至支撑起两个基台。

7.根据权利要求3至4任一项所述的曝光装置,其特征在于,所述基台位置互换机构设置在所述平行设置的两个第二导轨之间,并与两个基台距离相等的位置上。

8.根据权利要求3至4任一项所述的曝光装置,其特征在于,所述第一导轨、第二导轨为气悬浮导轨。

9.根据权利要求6所述的曝光装置,其特征在于,所述支撑体通过卡扣与所述基台咬合固锁。

10.根据权利要求2至4任一项所述的曝光装置,其特征在于,所述升降机构控制所述基台支撑体上升至支撑起两个基台为:升降机构控制所述基台支撑体支撑两个基台上升3-8厘米。

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