[实用新型]曝光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及曝光领域，尤其涉及曝光装置。

背景技术

曝光是光刻工艺中重要的步骤，曝光的过程包括以下步骤：

1.Glass change(基板交换)过程，即在一次曝光结束后，下一张基板开始曝光前，将基台移动到起始位置，Lift Pin把已经曝光的基板顶起，机械手取走已经曝光的基板，然后把下一张待曝光基板放置在基台上，Lift pin落下，本步骤时间通常在8S，占全过程总时间的12.5％左右；

2.对位过程，即在基板交换完成后，为了曝光的精确性，会进行基台与掩模板的位置确认，以保证曝光的置的准确性，本步骤通常在6S，占全过程总时间的9.4％。

3.曝光过程，即通过基台与掩模板的相对位置移动，使基板上感光材料感光的过程，本步骤在50S，占全过程总时间的78％左右。

从以上步骤可以看出，由于曝光过程比较复杂，要完成一次曝光，需要的时间较长。

目前，可以通过提高曝光灯的照度、更改产品CD设计等方法、节约对位步骤等措施来提高曝光的速度，进而提高曝光设备的产能。但是，一系列措施后，曝光速度的提高都非常有限，产能只提高了1％-3％，曝光设备的产能的提高也非常有限。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种曝光装置，能够提高曝光工艺流程的速度。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

一种曝光装置，包括两个基台和基台位置互换机构，所述基台位置互换机构用于互换两个基台的位置。

本实用新型实施例提供的曝光装置，设置两个基台，在曝光工艺过程中一个基台用来进行曝光操作，一个基台用来对位操作。在对一个基板进行曝光操作的同时，对下一个待曝光基板进行对位操作，在对一个基板曝光完毕后，直接对已经做好对位操作的待曝光基板进行曝光操作，省去了进行下一个待曝光基板对位操作的时间，于是能够提高曝光工艺流程的速度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型曝光装置中的两个基台和基台位置互换机构的结构图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型实施例提供了一种曝光装置，包括两个基台和基台位置互换机构，所述基台位置互换机构用于互换两个基台的位置。

本实施例提供的曝光装置，设置两个基台，在曝光工艺过程中一个基台用来进行曝光操作，一个基台用来对位操作。在对一个基板进行曝光操作的同时，对下一个待曝光基板进行对位操作，在对一个基板曝光完毕后，直接对已经做好对位操作的待曝光基板进行曝光操作，省去了进行下一个待曝光基板对位操作的时间，于是，能够提高曝光工艺流程的速度。

作为本实施例的一种改进，本实用新型实施例提供了另一种曝光装置，如图1所示，包括基台1、基台2和用于互换两个基台位置的基台位置互换机构。

其中，基台位置互换机构包括：基台支撑体3和控制基台支撑体3升降的升降机构4。

在曝光工艺过程中，具体实施过程为：

在基台1完成基板曝光后，升降机构4上升，升降机构4在上升的过程中推动支撑体3上升，基台支撑体3上升至与基台1和基台2相接触，支撑体3继续上升一段距离，至支撑起基台1和基台2。在基台1和基台2被支撑体3支撑起来后，支撑体3水平旋转180度，使基台1和基台2互换位置。

在基台1和基台2互换位置后，升降机构4开始下降，升降机构4下降到基台1和基台2的支撑结构上，升降机构4继续下降一段距离，直至支撑体3与基台1和基台2分离。

曝光装置对基台2上的基板进行曝光。在曝光装置对基台2上的基板进行曝光的同时，机械手将基台1上已经完成曝光操作的基板取走，将下一张待曝光的基板放置在基台1上，进行对位操作，即进行基台1与掩模板的位置确认过程。