[发明专利]可记录光盘、记录装置和记录方法有效

专利信息
申请号: 201080003085.9 申请日: 2010-07-01
公开(公告)号: CN102197428A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 秋元义浩;小林昭荣;伊藤基志;日野泰守;井上弘康;宫本治一;西村孝一郎;黄盛熙;黄仁吾 申请(专利权)人: 索尼公司;松下电器产业株式会社;TDK株式会社;日立民用电子股份有限公司;三星电子股份有限公司
主分类号: G11B7/007 分类号: G11B7/007;G11B7/0045;G11B7/125
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 王安武
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 记录 光盘 装置 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及诸如一次写入盘和可重写盘之类的可记录光盘、能够应对可记录光盘的记录装置和记录方法。

背景技术

已知诸如Blu-ray Disc(蓝光盘)(注册商标)之类的光记录介质。在光记录介质中,通过使用半导体激光执行信息的记录和再现。

利用半导体激光对光盘的记录受到由温度和随时间的变化而引起的激光功率变动、由制造时的调整误差引起的各种歪斜和偏差以及驱动控制中的记录条件差距的很大影响。因此,特别是对于诸如一次写入盘和可重写盘之类的可记录光盘,要抑制激光驱动电路和光学元件的变动并且执行精确的发光波形控制。

在实际的信息记录装置中,一般地,在即将进行数据记录之前,通过使用部署在每个记录层中的测试写入区域(最优功率控制(OPC)区域)来探索最优激光功率并且调整记录激光功率和策略以便优化记录条件。

在用于此记录激光功率调整的试验写入过程(测试写入)中,需要在最优记录条件不明的状态中执行上述的扰动的去除、记录功率的优化和激光驱动脉冲的优化。

在探索最优条件时,取决于情况,利用具有过高能量的激光照射测试写入区域并且在激光驱动脉冲的宽度(激光发射时间)不适当的情况下执行激光照射。从而,可能对记录层中的测试写入区域造成严重损伤。

另外,在其中在盘基板上形成多个记录层的所谓多层光盘中,某一记录层的记录/再现受另一记录层的影响。

例如,发生由记录引起的记录层的透过率变化,这可能妨碍以适当的光量对期望记录层的光照射。

另外,透过率变化对于记录功率有依从性。因此,在像OPC区域这样在记录功率变动的情况下执行记录的地方,无法控制透过率变化,即对其他记录层的影响程度。

这些事实导致这样一个问题,即,取决于其他记录层的记录状态,无法实现期望的OPC控制,并且难以得出准确的优化条件。

具体而言,在在某一记录层中的OPC区域中执行试验写入并且调整激光功率的情况下,此试验写入受到如下测试写入区域的影响:该测试写入区域在另一记录层中并且被部署在与此OPC区域在平面方向(盘半径方向)上相同的位置(即,与此OPC区域在厚度方向(=层方向)上重叠的位置)。

为了解决此问题,作为相关技术,例如,如在以上所示的专利文献1中可见,已经设计了使不同记录层中的测试写入区域沿着记录层的半径方向相互错开的方法,以及在不同记录层中的试验写入区域之间不为试验写入使用同一半径位置的方法。

另外,在现有的Blu-ray Disc的双层标准中,规定部署在盘内周侧的导入区块中的各个记录层的测试写入区域被部署成沿着记录层的半径方向相互错开。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:PCT专利公布No.WO05/034110小册子

专利文献2:日本专利早期公布No.2004-295940

发明内容

顺便说一下,对于信息记录介质,始终希望其记录容量增大。例如,在Blu-ray Disc的情况下,设想了记录层数目的增大将向三层结构和四层结构推进,并且将实现容量的显著增大。

在开发四层光盘时,难以在各个记录层中设计OPC区域并且设计记录和再现各种管理信息的区域。

其原因之一如下。因为如上所述由于对记录层的记录操作而发生透过率变化,所以OPC操作和记录/再现操作受到另一层的影响。因此,需要考虑到这一点来设计这些区域。

另外,由于透过率变化对记录功率的依从性,对其他层的影响程度是不定的,并且难以预测透过率变化。这也是原因之一。

另外,在设计OPC区域和管理信息区域时,也考虑了与现有单层盘和双层盘的兼容性。从而,所有必要的区域都需要被适当地布置在预定的有限半径范围(例如导入区域)中。

需要本发明考虑上述这些点并且提出一种适合于可记录四层光盘的区域布置。

根据本发明的一个实施例,提供了一种可记录光盘,包括被配置为设在盘基板上的四个记录层以及被配置为形成在激光入射表面侧的透光层。在该可记录光盘中,用于激光功率控制的四个测试区域的每一个被设在各个记录层中的比记录用户数据的数据区块更靠近内周的内区块侧区域中。另外,如果四个测试区域之中更靠近盘外周的两个测试区域被定义为第一配对并且四个测试区域之中更靠近盘内周的两个测试区域被定义为第二配对,则第一配对的测试区域和第二配对的测试区域被部署成避免在层方向上相互重叠。

另外,第一配对的两个测试区域具有相同的测试区域消耗方向,并且被部署成防止这些测试区域中接下来要使用的部分在层方向上相互重叠。

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