[发明专利]柔性基板位置控制设备

说明书

技术领域

本发明涉及柔性基板位置控制设备，尤其涉及在传输柔性基板时在执行诸如膜沉积的处理的处理设备中控制带状柔性基板在宽度方向上的位置的控制设备。

背景技术

虽然刚性基板通常用于诸如半导体薄膜的薄膜层叠体的基板，但是为了改善生产率并降低成本，由于重量轻并能够成辊地处理所以能提供较大的处理方便，也有使用诸如塑料膜的柔性基板的情况。例如，专利文献1揭示了薄膜层叠体(薄膜光电转换元件)的制造设备，它在柔性基板上层叠并形成不同性质的多个薄膜，并使用在柔性基板的传输方向上排列的多个沉积单元绕成成品辊，同时间歇地以指定间距传输从退绕辊提供的带状柔性基板(聚酰亚胺膜)。

专利文献1：日本专利申请特许公开No.2005-72408

发明内容

有两种类型的这种薄膜层叠体制造设备，一种是以水平方位传输时执行沉积，即在传输时带状柔性基板的宽度方向是水平方向，一种是以垂直方位传输时执行沉积，即在传输时带状柔性基板的宽度方向是垂直方向。虽然与前者相比后者提供诸如安装面积小和基板表面更抗污染等优点，但是如果传输跨度变得过长，它将变得难以对抗重力而保持恒定的传输高度，从而导致柔性基板表面出现皱纹或使得柔性基板下垂的趋势变得显著。

专利文献1揭示的设备用夹紧构件(垫片)夹紧柔性基板的上下边缘，并在柔性基板的分步传输的停止阶段期间在宽度方向上拉伸。然而，由于该设备重复夹紧、拉伸和释放柔性基板，所以它难以将柔性基板保持在恒定的传输高度，并且也不能实现在连续传输柔性基板时执行沉积的连续沉积设备。

因此，如图1A至1C所示，本发明的发明人已开发了一种设备，其中夹持柔性基板1的上下边缘的成对的上下夹持辊30和30′排列在构成薄膜层叠体制造设备的各沉积单元20之间，夹持部分处各夹持辊的旋转方向相对于柔性基板1的传输方向F具有朝向上对角方向和下对角方向的偏转角+θ和-θ，并且柔性基板1的传输高度通过允许向上和向下作用的提升力和下降力作用在柔性基板1的上下边缘上来调节。

虽然该设备在展开柔性基板和调节柔性基板的传输高度方面是有利的，但它不能应用于包括柔性基板在相反方向上传输的往复沉积过程。如果柔性基板在相反方向上传输，则归因于上述偏转角的提升力和下降力在相反的方向上作用，从而导致夹持辊30和30′的问题。

鉴于以上原因，本发明的目的是提供一种柔性基板位置控制设备，它能够以垂直方位传输带状柔性基板，同时抑制柔性基板出现下垂和皱纹，并且在实现高质量处理的同时，能够适应柔性基板在相反方向上的传输。

为了实现上述目的，本发明的第一方面是一种处理设备中的柔性基板位置控制设备，该柔性基板位置控制设备以垂直方位在水平方向传输带状柔性基板，并由安装在基板的传输路径中的处理单元进行基板的处理，该控制设备设置有：一对夹持辊，夹持基板的上边缘；支撑机构，可旋转地支撑一对夹持辊，同时允许这些辊彼此互相接触和分离；施力装置，用于经由支撑机构向所述一对夹持辊施加压力；以及调节装置，用于调节由施力装置施加的压力，其中，该对夹持辊具有倾斜度，其中相对于基板的夹持面的加压方向为朝向基板宽度方向的边缘，且该对夹持辊由支撑机构支撑，以使夹持面处的旋转方向与基板的传输方向为相同方向。

此外，为了实现上述目的，本发明的第二方面是一种处理设备中的柔性基板位置控制设备，该柔性基板位置控制设备以垂直方位在水平方向传输带状柔性基板，并由安装在基板的传输路径中的处理单元进行基板的处理，该控制设备设置有：支撑机构，可旋转地支撑一对夹持辊，同时允许这些辊彼此互相接触和分离；施力装置，用于经由支撑机构向该对夹持辊施加压力；以及调节装置，用于调节由施力装置施加的压力，其中该对夹持辊具有倾斜度，其中各个辊的轴方向朝向基板宽度方向的边缘移离基板的夹持面，且该对夹持辊由支撑机构支撑，以使夹持面处的旋转方向与基板的传输方向为相同方向。