[发明专利]电致发光装置有效
申请号: | 201080006753.3 | 申请日: | 2010-01-27 |
公开(公告)号: | CN102308409A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | H.F博尔纳 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 谢建云;刘鹏 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电致发光 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种具有将对电极分隔成多个电学隔离节段的至少一个分隔件的电致发光装置。再者,本发明涉及一种用于分割对电极的方法、使用保护装置分隔对电极、使用导电胶接触对电极节段、相应的保护装置以及覆盖有根据本发明的衬底电极的衬底。
背景技术
US2005/142974A1描述一种电致发光显示器和制作电致发光显示器的方法。为了制作这种电致发光显示器,在衬底上形成第一电极。接着,在第一电极上在素区域边界处形成绝缘层。具有预定倒锥形的预制隔离件应用在所述绝缘层上。有机电致发光层分散在衬底上。隔离件将有机电致发光层分隔成多个隔离节段。由于隔离件位于像素区域的边界处,可以在相邻像素区域之间防止颜色混合,其中所述颜色混合可由有机电致发光层的溢出引起。在另一步骤中,在有机电致发光层和隔离件的整个表面上形成第二电极材料层。在最后步骤中,使用激光辐射对应于隔离件的一部分第二电极层。因此,第二电极层的受辐射部分被移除。因而,获得了分隔成多个电学隔离节段的电致发光装置,每个节段包括有机电致发光层和对电极。遗憾的是,隔离件的应用是复杂且昂贵的。
发明内容
因而,本发明其目的是消除上述缺点。特别地,本发明的目的是提供一种允许灵活且容易地制作和可靠地操作的分节段的电致发光装置。
此目的是通过如本发明权利要求1教导的电致发光装置来实现。另外,该目的是通过如本发明权利要求8教导的方法来实现。所述电致发光装置和方法的有利实施例在从属权利要求中限定。结合电致发光装置描述的特征和细节也适用于方法,并且反之亦然。
本发明公开了一种电致发光装置,其包括衬底以及位于衬底之上的衬底电极、对电极和布置在衬底电极和对电极之间的具有至少一个有机电致发光层的电致发光层叠层;以及封装装置,其至少封装该电致发光层叠层;至少一个分隔件,其至少将对电极分隔成多个电学隔离的对电极节段;以及在分隔件下方的不导电保护装置,其布置在衬底电极上超出该分隔件,该保护装置具有适合于防止出现产生阴影的边缘的形状。
本发明的主导思想是使用一种应用到衬底电极的保护装置以及将该分隔件至少插入保护装置上方的对电极内。在本发明上下文中,概念分隔件表示与产生结构化层的光刻和/或掩模工艺相对比,最初连接的层之间的在沉积这些层之后形成的任何间隙。分隔件可包括将先前均匀的对电极隔离成至少两个电学隔离的对电极节段(也称为节段)的类似槽的形状。再者,不导电保护装置确保所述两个电极之间不出现直接接触,这种直接接触将引起短路。不再需要凸角的隔离件。使用保护装置是足够的,因为对电极的隔离可以通过机械的方式进行。对电极的结构化是在保护装置上方进行,该保护装置用于保护衬底电极免受将分隔件应用到对电极中的任何影响。所公开的电致发光装置的结构化可以例如在手套箱中在惰性和/或干燥气氛(例如干燥氮气等)中应用。因此,所公开的电致发光装置的制作比已知现有技术便宜得多。再者,由保护装置覆盖的衬底区域可以针对每个电致发光装置被单独地调节,从而允许沿着保护装置对单独电致发光装置的可变的分割。
在本发明上下文中,概念电致发光(EL)层叠层表示在衬底电极和对电极之间制备的所有层。EL层叠层包括在衬底和对电极之间制备的至少一个发光有机电致发光层。在其它实施例中,电致发光层叠层可包括在衬底和对电极之间制备的若干层。所述若干层可以是有机层,诸如一个或多个空穴传输层、电子阻挡层、电子传输层、空穴阻挡层、发射层或者有机和无机层的组合。在层叠层和/或电荷注入层中具有两个或更多个发光层的情况下,无机层可以是附加电极。在一优选实施例中,衬底电极和/或对电极包括下述材料中的至少一种:ITO、铝、银、掺杂ZnO或氧化物层。
在本发明上下文中,概念衬底表示电致发光装置的不同层沉积在其上的基底材料。通常,衬底是透明的且由玻璃制成。再者,会是优选的是,衬底是透明的,优选地包括下述材料中的至少一种:银、金、玻璃或陶瓷。它也可以是透明聚合物板或箔,其具有适当水气和氧气屏障从而基本上防止水气和/或氧气进入电致发光装置层叠层。还可能使用比如金属箔的不透明材料作为衬底。衬底可包括另外的层,例如用于光学目的(比如光耦出增强)或者其它目的。衬底通常是平坦的,但是它也可以成形为期望的任何三维形状。
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