[发明专利]阻气性层压膜的制造方法

权利要求书

1.一种阻气性层压膜的制造方法，具有：(1)通过真空蒸镀法在基材膜的至少一个表面上形成无机薄膜的工序；(2)通过等离子体化学气相沉积法在工序(1)所形成的无机薄膜上形成薄膜的工序；以及(3)通过真空蒸镀法在工序(2)所形成的薄膜上形成无机薄膜的工序，

所述工序(1)以及(3)各自在1×10^-7～1Pa的压力下连续进行，工序(2)在1×10^-3～1×10²Pa的压力下连续进行。

2.根据权利要求1所述的阻气性层压膜的制造方法，工序(1)以及(3)中各自的压力低于工序(2)中的压力。

3.根据权利要求1或2所述的阻气性层压膜的制造方法，工序(2)中的压力与工序(1)以及(3)中各自的压力的比率、即工序(2)中的压力/工序(1)以及(3)中的各自的压力为10～1×10⁷。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的阻气性层压膜的制造方法，反复进行1～3次工序(2)以及工序(3)。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的阻气性层压膜的制造方法，在同一真空槽内进行工序(1)～(3)。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的阻气性层压膜的制造方法，工序(2)中的通过等离子体化学气相沉积法得到的薄膜由选自无机物、无机氧化物以及无机氮化物的至少一种构成。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的阻气性层压膜的制造方法，通过所述真空蒸镀法形成的无机薄膜各自由1.2≤x₁≤1.9的SiOx₁构成，通过等离子体化学气相沉积法形成的薄膜由1.5≤x₂≤2.5的SiOx₂构成，且0.3≤x₂-x₁≤1.3。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的阻气性层压膜的制造方法，工序(2)中的通过等离子体化学气相沉积法得到的薄膜由选自聚酯系树脂、聚氨酯系树脂、丙烯酸系树脂、环氧系树脂、硝基纤维素系树脂、硅系树脂、异氰酸酯系树脂以及聚对亚二甲苯系树脂构成的组中的至少一种构成。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的阻气性层压膜的制造方法，具有在基材膜上形成有由选自聚酯系树脂、聚氨酯系树脂、丙烯酸系树脂、硝基纤维素系树脂、硅系树脂以及异氰酸酯系树脂构成的组中的至少一种树脂构成的底涂层的工序。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的阻气性层压膜的制造方法，具有设置保护层作为最上层的工序。

11.根据权利要求10所述的阻气性层压膜的制造方法，保护层由选自聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇以及乙烯-不饱和羧酸共聚物中的至少一种树脂构成。

12.一种阻气性层压膜，依次具有基材膜、(A)通过真空蒸镀法形成于所述基材膜的至少一个表面上的无机薄膜以及(B)由通过等离子体化学气相沉积法、接着通过真空蒸镀法依次形成于所述无机薄膜(A)上的薄膜构成的构成单元层的至少一层。

13.根据权利要求12所述的阻气性层压膜，所述(A)层以及(B)层是在同一真空槽内、于减压下连续得到的层。

14.根据权利要求12或者13所述的阻气性层压膜，通过所述真空蒸镀法形成的无机薄膜各自由1.2≤x₁≤1.9的SiOx₁构成，通过所述等离子体化学气相沉积法形成的薄膜由1.5≤x₂≤2.5的SiOx₂构成，且0.3≤x₂-x₁≤1.3。

15.一种阻气性层压膜，由权利要求1～11中任一项所述的制造方法获得。