[发明专利]阻气性层压膜的制造方法无效
申请号: | 201080008813.5 | 申请日: | 2010-02-15 |
公开(公告)号: | CN102317496A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 吉田重信;大川原千春;尾关幸太 | 申请(专利权)人: | 三菱树脂株式会社 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;B32B9/00;C23C14/56;C23C16/40;C23C16/54 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 徐申民;刘香兰 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气性 层压 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及阻气性优异的层压膜以及其制造方法。
背景技术
从以往开始,以塑料膜为基材、在其表面形成无机薄膜的阻气性塑料膜被广泛利用于需要阻断水蒸气或氧等的各种气体的物品的包装,例如用于防止食品、工业用品以及药品等的变质的包装。又,关于该阻气性塑料膜,除了包装用途之外,近年来作为液晶显示元件、太阳能电池、电磁波护罩、触摸屏、EL用基板、滤色器等中使用的透明导电薄片的新用途也受到瞩目。
关于形成这样的无机薄膜而形成的阻气性塑料膜,在各种目的之下研究了若干的改良,例如公开的有,从透明性或阻气性的观点考虑,在塑料膜上依次层压金属氧化物层/树脂/金属氧化物层而成的全光线透射率在85%以上的阻气性膜(参阅专利文献1);以及为防止、抑制金属氧化物的破损,在透明性塑料膜上依次交替层压金属氧化物层、有机物层的阻透膜(参阅专利文献2)。
又,专利文献3公开了:在基材的至少一个面上具有由氮化硅以及/或氧化氮化硅形成的阻气膜、具有基材/树脂层/阻挡层/树脂层/阻挡层等的构成的阻挡膜。
此外,专利文献4公开了,含有碳含量高的金属氧化物的膜通过作为应力缓和层发挥作用,能够防止膜整体发生皲裂或层之间发生剥离,专利文献5显示了由基材膜/无机薄膜/底涂层/无机薄膜构成的阻气性层压膜。
专利文献6公开了通过在基材上重复2次以上的蒸镀工序,由此层压了2层以上的氧化硅蒸镀膜的层压蒸镀膜层改善阻挡性的情况,专利文献7公开了,通过在基材膜上依次具有无机氧化物层和氧化氮化碳化硅层或者氧化碳化硅层的阻气性层压体,改善耐湿热性或阻气性。
进一步,专利文献8公开了,在基材上具有由通过物理蒸镀法形成的金属或者金属化合物构成的阻气性薄膜、在基材和阻气性薄膜之间夹持有通过蒸镀合成法形成的聚亚胺膜的阻气性层压体,又,专利文献9公开了通过真空蒸镀法在由高分子树脂构成的基材上设置无机化合物膜,通过化学气相沉积法,使有机化合物在无机化合物膜的厚度方向分布,做成有机·无机复合膜,从而制造阻气材料。
然而,这些膜中,各种目的的性状有一定程度的改善,然而,对于阻气性或层压膜的构成层之间的密合强度或生产率尚不充分,期望改善这些情况。
已知技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2003-71968号公报
专利文献2:日本专利特开2003-231202号公报
专利文献3:日本专利特开2004-114645号公报
专利文献4:日本专利特开2003-257619号公报
专利文献5:国际公开2007-34773号小册子
专利文献6:日本专利特开平4-89236号公报
专利文献7:日本专利特开2006-297730号公报
专利文献8:日本专利特开平10-6433号公报
专利文献9:日本专利特开平11-302422号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明要解决的课题在于,提供一种制造生产率良好、制造之后就显示高阻气性、且维持优良的阻气性,同时,构成层之间具有优良的密合强度的层压膜的方法、以及通过该制造方法得到的阻气性层压膜。
解决课题的手段
本发明涉及:
(1)一种阻气性层压膜的制造方法,该制造方法具有:(1)通过真空蒸镀法在基材膜的至少一个表面上形成无机薄膜的工序;(2)通过等离子体化学气相沉积法在工序(1)所形成的无机薄膜上形成薄膜的工序;以及(3)通过真空蒸镀法在工序(2)所形成的薄膜上形成无机薄膜的工序,所述工序(1)以及(3)各自在1×10-7~1Pa的压力下连续进行,工序(2)在1×10-3~1×102Pa的压力下连续进行,理想的是所述工序(1)以及(3)各自在1×10-6~1×10-1Pa的压力下连续进行,工序(2)在1×10-2~10Pa的压力下连续进行。
(2)一种阻气性层压膜,依次具有基材膜、(A)通过真空蒸镀法形成于所述基材膜的至少一个表面上的无机薄膜以及(B)由通过等离子体化学气相沉积法、接着通过真空蒸镀法依次形成于所述无机薄膜(A)上的薄膜构成的构成单元层的至少一层。
发明的效果
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