[发明专利]磁记录介质的制造方法和磁记录再生装置

说明书

技术领域

本发明涉及用于硬盘装置等的磁记录再生装置的磁记录介质的制造方法和磁记录再生装置。

本申请基于在2009年3月11日在日本申请的专利申请2009-58116号要求优选权，将上述申请的内容援引到本申请中。

背景技术

近年，磁盘装置、软盘装置、磁带装置等的磁记录装置的适用范围在显著地增大，随着其重要性增大，对于用于这些装置的磁记录介质，在谋求其记录密度的显著的提高。尤其是引进MR磁头和PRML技术以来，面记录密度的上升更加激烈，近年又引进GMR磁头、TMR磁头等，每年在以约50％的速度继续增加。

对于这些磁记录介质，今后要求实现更高的记录密度，因此要求实现磁性层的高矫顽力化、高信噪比(SNR)、高分辨率。

另外，近年也在继续着在线记录密度提高的同时，通过磁道密度的增加来提高面记录密度的努力。尤其是，在最新的磁记录装置中，磁道密度已达到110kTPI。

然而，若将磁道密度提高下去的话，则相邻的磁道间的磁记录信息相互干扰，其边界区域的磁化迁移区域成为噪声源，容易产生损害SNR的问题。这种情况直接导致比特误码率(Bit Error rate)的恶化，因此成为对于记录密度的提高的障碍。

另外，为了提高面记录密度，必须使磁记录介质上的各记录比特的尺寸更加微细化，对各记录比特必须确保尽可能大的饱和磁化和磁性膜厚。然而，若将记录比特微细化下去的话，则每一比特的磁化最小体积变小，由于热摆所导致的磁化反转，产生记录数据消失的问题。

另外，由于磁道间距离接近，磁记录装置要求极高精度的磁道伺服技术，并且宽幅地实行记录，为了尽量排除来自相邻磁道的影响，一般地采用比记录时窄地进行再生的方法。该方法能够将磁道间的影响抑制在最小限度，另一方面，难以充分得到再生输出，因此存在难以确保充分的SNR的问题。

作为解决这样的热摆问题、确保SNR或者实现确保充分的输出的方法之一，进行了下述尝试：通过在记录介质表面上形成沿着磁道的凹凸，物理性地分离记录磁道彼此，由此提高磁道密度。以下将这样的技术称作分离磁道法，将由此制造的磁记录介质称作分离磁道介质(离散磁道介质)。

另外，也有制造进一步分割了同一磁道内的数据区域的所谓图案介质的尝试。

作为分离磁道介质的一例，已知在表面形成有凹凸图案的非磁性基板上形成磁记录介质，形成物理性地分离的磁记录磁道以及伺服信号图案的磁记录介质(例如参照专利文献1)。

该磁记录介质，是在表面具有多个凹凸的基板的表面上隔着软磁性层形成有强磁性层，在该强磁性层的表面上形成了保护膜的磁记录介质。该磁记录介质，在凸部区域形成有与周围物理性地分隔的磁记录区域。

根据该磁记录介质，能够抑制软磁性层中的畴壁发生，因此难以出现热摆的影响，也没有相邻的信号间的干扰，所以能够形成噪声少的高密度磁记录介质。

分离磁道法有在形成了由几层的薄膜构成的磁记录介质后形成磁道的方法；预先在基板表面上直接或者在用于形成磁道的薄膜层上形成凹凸图案后，进行磁记录介质的薄膜形成的方法(例如参照专利文献2、3)。

另外，还公开了通过对预先形成的磁性层注入氮、氧等的离子或者照射激光，使该部分的磁特性变化从而形成分离磁道介质的磁道间区域的方法(参照专利文献4～6)。

大致区分如以上那样制造具有磁性分离了的磁记录图案的所谓的分离磁道介质或图案介质时形成磁记录图案的方法，有：(1)通过使磁性层的一部分暴露在使用氧和/或卤素的反应性等离子体或反应性离子中，对磁性膜的磁特性进行改性，形成磁记录图案的方法；和(2)采用离子铣削对磁性层的一部分进行加工，形成磁记录图案，并在加工部位填充非磁性材料将表面平滑化的方法。

再者，关于进行离子铣削时所使用的离子枪的结构，曾公开了在等离子发生室中使用了三个电极的结构(参照专利文献7)。

现有技术文献

专利文献1：日本特开2004-164692号公报

专利文献2：日本特开2004-178793号公报

专利文献3：日本特开2004-178794号公报

专利文献4：日本特开平5-205257号公报

专利文献5：日本特开2006-209952号公报

专利文献6：日本特开2006-309841号公报

专利文献7：日本特开2005-116865号公报

发明内容