[发明专利]用于镍-磷存储磁盘的抛光组合物

说明书

背景技术

对存储磁盘或硬磁盘(memory or rigid disks)中提高的存储容量的要求以 及存储磁盘或硬磁盘朝向小型化的趋势(这是由于对计算机设备中更小的硬 驱动器的需求)仍旧强调存储磁盘或硬磁盘制造方法的重要性，所述制造方 法包括为了确保最高性能而对这样的磁盘的平坦化或抛光。虽然存在若干种 用于和半导体器件制造一起使用的化学-机械抛光(CMP)组合物和方法，但常 规的CMP方法或市售的CMP组合物几乎没有非常适于存储磁盘或硬磁盘的 平坦化或抛光的。

随着对提高的存储容量的要求提高，对用于这样的存储磁盘或硬磁盘的 抛光的改进方法的需求也增加。术语“存储磁盘或硬磁盘”是指用于以电磁 形式保留信息的任何磁盘、硬盘、硬磁盘或存储磁盘。存储磁盘或硬磁盘典 型地具有包含镍-磷的表面，但存储磁盘或硬磁盘表面可包含任何其它合适 的材料。必须改善存储磁盘或硬磁盘的平面性，因为随着记录密度的改善(其 要求磁头相对于存储磁盘或硬磁盘的更低浮动高度(flying height))，磁盘驱动 器的记录头与存储磁盘或硬磁盘的表面之间的距离减小。为了允许更低的磁 头浮动高度，需要存储磁盘或硬磁盘的表面光洁度的改善。

另外，许多国家中的环境规章限制可释放到环境中的废水物流中的有机 材料的量。用在半导体制造中的许多抛光组合物是基于作为液体载体的水。 处置废弃抛光组合物需要处理所述组合物以降低污染物的水平，例如所述抛 光组合物中有机材料的含量，其增加制造过程的成本。水质量的一种度量称 为化学需氧量。化学需氧量是将废弃物流中的有机材料完全氧化成二氧化 碳、氨和水所需的氧的量的度量。因此，本领域中存在对呈现降低的化学需 氧量以满足日益严格的环境要求的抛光组合物的需要。

发明内容

本发明提供化学-机械抛光组合物，其包含：(a)α-氧化铝，(b)热解氧化 铝，(c)二氧化硅，(d)将镍-磷氧化的氧化剂，(e)0.1重量％至5重量％的草酸， (f)任选的0.1重量％至2重量％的酒石酸，(g)任选的非离子型表面活性剂， (h)任选的杀生物剂，和(i)水，其中该抛光组合物具有2至4的pH。

本发明还提供对基材进行化学-机械抛光的方法，其包括：(i)使基材与抛 光垫和化学-机械抛光组合物接触，该化学-机械抛光组合物包含：(a)α-氧化 铝，(b)热解氧化铝，(c)二氧化硅，(d)将镍-磷氧化的氧化剂，(e)0.1重量％至 5重量％的草酸，(f)任选的0.1重量％至2重量％的酒石酸，(g)任选的非离子 型表面活性剂，(h)任选的杀生物剂，和(i)水，其中该抛光组合物具有2至4 的pH，(ii)使该抛光垫相对于该基材移动，该抛光垫与该基材之间有该化学 机械抛光组合物，和(iii)磨除该基材的至少一部分以抛光该基材。

具体实施方式

本发明提供化学-机械抛光组合物，其包含以下物质、基本上由以下物 质组成、或由以下物质组成：(a)α-氧化铝，(b)热解氧化铝，(c)二氧化硅，(d) 将镍-磷氧化的氧化剂，(e)0.1重量％至5重量％的草酸，(f)任选的0.1重量％ 至2重量％的酒石酸，(g)任选的非离子型表面活性剂，(h)任选的杀生物剂， 和(i)水，其中该抛光组合物具有2至4的pH。

该抛光组合物包含热解氧化铝、α-氧化铝和二氧化硅的混合物。热解金 属氧化物例如热解氧化铝和热解二氧化硅可由任何合适的挥发性或非挥发 性前体制备。热解金属氧化物可由挥发性前体通过所述前体(例如，金属氯 化物)在高温火焰(H₂/空气或H₂/CH₄/空气)中的水解和/或氧化以产生感兴趣 的金属氧化物而制造。热解金属氧化物可由非挥发性前体通过将所述前体溶 解或分散在合适的溶剂例如水、醇或基于酸的溶剂中而制备。可使用液滴发 生器将含有该前体的溶液喷入高温火焰中，然后可收集金属氧化物聚集体。 典型的液滴发生器包括双流体雾化器、高压喷嘴和超声雾化器。