[发明专利]半导体激光模块有效
申请号: | 201080013441.5 | 申请日: | 2010-03-17 |
公开(公告)号: | CN102362400A | 公开(公告)日: | 2012-02-22 |
发明(设计)人: | 木本龙也;清田和明 | 申请(专利权)人: | 古河电气工业株式会社 |
主分类号: | H01S5/02 | 分类号: | H01S5/02;G02B6/122;H01S5/022;H01S5/50 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 激光 模块 | ||
技术领域
本发明涉及能够使用弯曲波导将从半导体激光元件输出的激光以倾 斜的方式向输出端面射出并降低反射光的半导体激光模块。
背景技术
以往以来,在从半导体激光元件输出激光的情况下,为降低射出端面 的反射返回光,例如设有相对于射出端面弯曲了7度程度的弯曲波导。由 此,为了降低向半导体激光元件的共振器的反射返回光,可以进行稳定的 激光输出。
另一方面,将从半导体激光元件输出的光向光纤导波并输出的以往的 半导体激光模块中,将输出的激光的一部分由束分离器等分路,使用光功 率监视器及对规定波长的光功率进行监视的波长监视器进行波长锁定控 制。此时,如果相对于光功率监视器及波长监视器分别设置束分离器,则 光学零件数量增加,且阻碍半导体激光模块的小型化,因此,有在利用一 个束分离器分路的光的光束上并列配置光功率监视器和波长监视器,将分 路的光沿光轴方向分割并分别受光的技术(参照专利文献1)。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:特开2006-216695号公报
发明内容
但是,如果设置弯曲波导,则在从射出端面输出的激光中除沿射出端 面的导波方向射出的导波光外,还存在从该弯曲波导泄漏的泄漏光,由于 该泄漏光的存在,从射出端面输出的激光的分布图案即FFP(远场图案) 在泄漏光侧产生旁瓣(サィドロ一ブ),关于光轴中心成为非对称。
在此,在使用具有该弯曲波导的半导体器件,且使用由一个束分离器 分路的光通过功率监视器和波长监视器进行监视时,由于上述的FFP的非 对称性,在功率监视器和波长监视器所检测的光输出中产生差异,因此, 存在不能进行精度高的波长锁定控制的问题点。特别是FFP根据激光的光 输出而变化,所以上述差异的大小也发生变化,因此,存在不能进行精度 高的波长锁定控制的问题点。
因此,本发明是鉴于上述情况而创立的,其目的在于,提供一种半导 体激光模块,即使在使用从具有弯曲波导的半导体器件输出的光、即沿光 轴方向分割的光分别监视光功率和波长的情况下,也能够进行精度高且稳 定的波长锁定控制。
用于解决课题的手段
为解决上述课题,实现目的,本发明提供一种半导体激光模块,其包 含:集成了至少一个半导体激光器和弯曲波导的半导体器件、束分离器、 多个检测器,从所述半导体激光器射出的激光经由所述弯曲波导传播,经 由所述弯曲波导射出的所述激光入射向所述束分离器,入射到所述束分离 器的激光的一部分由所述束分离器分路,由配置于该光束截面内的不同的 位置的所述多个检测器检测所述分路后的所述激光的一部分,其中,在光 路上设有用于使所述半导体激光器的输出和所述多个检测器的检测值的 相关关系接近线性的波形整形装置。
另外,本发明的半导体激光模块的特征在于,在上述发明中,所述波 形整形装置将光输出分布图案关于所述激光的光轴大致对称的进行整形。
另外,本发明的半导体激光模块的特征在于,在上述发明中,所述波 形整形装置是弯曲半径为1000μm以上的所述弯曲波导。
另外,本发明的半导体激光模块的特征在于,在上述发明中,所述波 形整形装置的所述弯曲波导的弯曲半径R、所述弯曲波导的波导部和包层 部的等效折射率差Δn={(波导部的折射率)-(包层部的折射率)}/(波 导部的折射率)满足
R≥A×Δn^(-B)(A=0.62、B=1.59)。
另外,本发明的半导体激光模块的特征在于,在上述发明中,所述波 形整形装置以使所述弯曲波导带来的光输出的损失为2%以下的方式对所 述光输出分布图案进行整形。
另外,本发明的半导体激光模块的特征在于,在上述发明中,所述半 导体器件具备:选择型可变波长激光器,其具有多个半导体激光器,从该 多个半导体激光器选择一个半导体激光器射出可变波长激光;光合流器, 其将从所述选择型可变波长激光器输出的激光向所述弯曲波导侧输出,所 述波形整形装置具有将从所述光合流器泄漏的光遮断的泄漏光阻止部。
另外,本发明的半导体激光模块的特征在于,在上述发明中,所述半 导体器件中还集成有将从所述半导体激光器射出的激光放大的半导体光 放大器,所述波形整形装置通过在向所述半导体光放大器的光输入前级设 置所述弯曲波导而对所述光输出分布图案进行整形。
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