[发明专利]阿德福韦酯的新晶型及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201080013954.6 申请日: 2010-03-26
公开(公告)号: CN102365283A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: 崔秀珍;李炳具;吴成秀;金龙泰;金光珠;金惠陈 申请(专利权)人: 株式会社大熊制药;大熊BIO株式会社
主分类号: C07D473/34 分类号: C07D473/34;C07F9/28
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 谢顺星
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阿德福韦酯 新晶型 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.阿德福韦酯的晶型A,其中,粉末XRD谱在2θ=12.9、25.9 和28.1表现出特征峰。

2.根据权利要求1所述阿德福韦酯的晶型A,其中,粉末XRD 谱在2θ=4.4、8.7、12.9、17.2、19.8、21.6、25.9、28.1和30.38± 0.3°表现出特征峰。

3.制备权利要求1所述阿德福韦酯的晶型A的方法,其特征在 于,

(a)将阿德福韦酯溶于2~7倍阿德福韦酯重量的良溶剂丙酮中, 将20~40倍阿德福韦酯重量的水作为结晶溶剂加入到该溶液中,收 集所得晶体,或

(b)将阿德福韦酯溶于2~5倍阿德福韦酯重量的良溶剂1-甲基吡 咯烷酮或5~15倍阿德福韦酯重量的良溶剂乙醇中,将10~30倍阿德 福韦酯重量的水作为结晶溶剂加入到该溶液中,收集所得晶体。

4.根据权利要求3所述的方法,其中加入结晶溶剂步骤时的温 度,(a)中维持在0~30℃,(b)中维持在0~10℃。

5.根据权利要求3所述的方法,其中,(a)中收集的晶体在35℃ 或以下进行干燥,(b)中收集的晶体在30℃或以下进行干燥。

6.阿德福韦酯的晶型B,其中,粉末XRD谱在2θ=7.3、16.3、 17.2和22.2表现出特征峰。

7.根据权利要求6所述阿德福韦酯的晶型B,其中,粉末XRD 谱在2θ=6.4、7.3、8.6、9.7、12.6、13.5、16.3、17.2、19.5、 20.8、22.2和26.0±0.3°表现出特征峰。

8.制备权利要求6所述阿德福韦酯的晶型B的方法,其特征在 于,将根据权利要求3所述的方法收集的阿德福韦酯的晶型A在 35~45℃下进行干燥。

9.阿德福韦酯的晶型C,其中,粉末XRD谱在2θ=8.1、8.8、 9.5、24.5、25.3和32.9表现出特征峰。

10.根据权利要求9所述阿德福韦酯的晶型C,其中,粉末XRD 谱在2θ=8.1、8.8、9.5、15.4、17.2、17.6、19.7、21.8、24.5、 25.3、26.8、28.9和32.9±0.3°表现出特征峰。

11.制备权利要求9所述阿德福韦酯的晶型C的方法,其特征在 于,将阿德福韦酯溶于2~7倍阿德福韦酯重量的良溶剂丙酮中,将 7~13倍阿德福韦酯重量的水作为结晶溶剂加入到该溶液中,收集所 得晶体。

12.根据权利要求11所述的方法,其中,加水后的混合物不进 行搅拌,通过维持0~10℃的恒定冷却温度5~30h,诱导晶体生长。

13.阿德福韦酯的晶型D,其中,粉末XRD谱在2θ=3.8和13.0 表现出特征峰。

14.根据权利要求13所述阿德福韦酯的晶型D,其中,粉末 XRD谱在2θ=3.8、7.2、10.4、12.4、13.0、15.9、17.5、21.0和23.3 ±0.3°表现出特征峰。

15.制备权利要求13所述阿德福韦酯的晶型D的方法,其特征 在于,

(a)将阿德福韦酯溶于1~5倍阿德福韦酯重量的良溶剂氯仿中, 将1~5倍阿德福韦酯重量的正庚烷作为结晶溶剂加入到该溶液中, 收集所得晶体,或

(b)将阿德福韦酯溶于0.5~2倍阿德福韦酯重量的良溶剂乙酸乙 酯中,将该溶液加入到10~100倍阿德福韦酯重量的结晶溶剂正庚烷 中,收集所得晶体。

16.根据权利要求15所述的方法,其中,(a)还包括在加入结晶 溶剂后,将混合物在-10~30℃下搅拌4~20h。

17.根据权利要求15所述的方法,其中,(b)还包括在加入结晶 溶剂后,将混合物在-20~20℃下搅拌4~20h。

18.阿德福韦酯的晶型E,其中,粉末XRD谱在2θ=3.4表现 出特征峰。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社大熊制药;大熊BIO株式会社,未经株式会社大熊制药;大熊BIO株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080013954.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top