[发明专利]曝光方法及曝光装置

权利要求书

1.一种曝光方法，一边向一个方向输送被曝光体，一边在该被曝光 体的沿输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每个区域形成不同的 曝光图案，所述曝光方法的特征在于，进行如下的步骤：

当使用光掩模的一掩模图案组进行的对所述被曝光体的一曝光区域 的曝光结束时，与所述被曝光体的输送速度同步地移动所述光掩模，从而 从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组的步骤，其中，所述光掩模通 过将与各所述曝光图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的输送 方向以规定间隔排列而形成；

当从所述光掩模的所述一掩模图案组向另一掩模图案组的切换结束 时，停止该光掩模的移动，通过所述另一掩模图案组来执行对所述被曝光 体的下一曝光区域的曝光的步骤。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

所述光掩模沿所述被曝光体的输送方向移动。

3.一种曝光装置，一边向一个方向输送被曝光体，一边在该被曝光 体的沿输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每个区域形成不同的 曝光图案，所述曝光装置的特征在于，具备：

输送机构，其以规定速度输送所述被曝光体；

掩模台，其与所述输送机构的上表面对置配设，保持光掩模并能够与 所述输送机构的移动同步地移动，其中，所述光掩模通过将与各所述曝光 图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的输送方向以规定间隔排 列而形成，

当使用所述光掩模的一掩模图案组进行的对所述被曝光体的一曝光 区域的曝光结束时，移动所述掩模台，从而从所述光掩模的一掩模图案组 切换成另一掩模图案组，通过该另一掩模图案组来执行对所述被曝光体的 下一曝光区域的曝光。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述掩模台沿所述被曝光体的输送方向移动。