[发明专利]曝光方法及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一边将被曝光体向一方向输送一边在设定在被曝光体上 的多个曝光区域的每个区域形成不同的曝光图案的曝光方法及曝光装置， 详细而言，涉及提高多种曝光图案的形成效率的曝光方法及曝光装置。

背景技术

以往，在这种曝光方法中，一边将被曝光体向一方向输送，一边选择 光掩模的一掩模图案组并通过该一掩模图案组在被曝光体的规定的曝光 区域上曝光形成一曝光图案组，接着，将上述被曝光体暂时返回到曝光开 始前的待机位置，之后将光掩模的掩模图案组切换成另一掩模图案组，然 后再次开始被曝光体的输送，从而通过上述另一掩模图案组在被曝光体的 另一曝光区域上曝光形成另一曝光图案组(例如，参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2008-310217号公报

然而，在这种以往的曝光方法中，每当一个掩模图案组的曝光结束时， 被曝光体暂时返回到曝光开始前的待机位置，因此，要形成的曝光图案的 种类越多，则对被曝光体的全部的曝光结束为止的被曝光体的总移动距离 越长。因此，当要在同一被曝光体上形成多种曝光图案时，存在曝光图案 的形成效率差这样的问题。

发明内容

因此，应对这样的问题点，本发明的目的在于提供一种提高对同一被 曝光体的多种曝光图案的形成效率的曝光方法及曝光装置。

为了实现上述目的，本发明的曝光方法一边向一个方向输送被曝光 体，一边在该被曝光体的沿输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每 个区域形成不同的曝光图案，所述曝光方法进行如下的步骤：

当使用光掩模的一掩模图案组进行的对所述被曝光体的一曝光区域 的曝光结束时，与所述被曝光体的输送速度同步地移动所述光掩模，从而 从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组的步骤，其中，所述光掩模通 过将与各所述曝光图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的输送 方向以规定间隔排列而形成；

当从所述光掩模的所述一掩模图案组向另一掩模图案组的切换结束 时，停止该光掩模的移动，通过所述另一掩模图案组来执行对所述被曝光 体的下一曝光区域的曝光的步骤。

根据这样的结构，当一边向一个方向输送被曝光体，一边使用光掩模 的一掩模图案组进行的对被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，与被曝光 体的输送速度同步地使光掩模移动而从一掩模图案组切换成另一掩模图 案组，其中该光掩模通过将与各曝光图案对应的多种掩模图案组沿着被曝 光体的输送方向以规定间隔排列而形成，并且，当从光掩模的一掩模图案 组向另一掩模图案组的切换结束时，使该光掩模的移动停止，通过另一掩 模图案组来执行对被曝光体的下一曝光区域的曝光，从而在被曝光体的沿 输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每个区域上形成不同的曝光 图案。

另外，所述光掩模向所述被曝光体的输送方向移动。由此，使光掩模 向被曝光体的输送方向移动而进行掩模图案组的切换。

另外，本发明的曝光装置一边向一个方向输送被曝光体，一边在该被 曝光体的沿输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每个区域形成不 同的曝光图案，所述曝光装置具备：

输送机构，其以规定速度输送所述被曝光体；

掩模台，其与所述输送机构的上表面对置配设，保持光掩模并能够与 所述输送机构的移动同步地移动，其中，所述光掩模通过将与各所述曝光 图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的输送方向以规定间隔排 列而形成，

当使用所述光掩模的一掩模图案组进行的对所述被曝光体的一曝光 区域的曝光结束时，移动所述掩模台，从而从所述光掩模的一掩模图案组 切换成另一掩模图案组，通过该另一掩模图案组来执行对所述被曝光体的 下一曝光区域的曝光。

根据这样的结构，当一边利用输送机构向一方向以规定速度输送被曝 光体，一边使用光掩模的一掩模图案组进行的对被曝光体的一曝光区域的 曝光结束时，与被曝光体的移动同步地使掩模台移动而从光掩模的一掩模 图案组切换成另一掩模图案组，通过该另一掩模图案组来执行对被曝光体 的下一曝光区域的曝光，从而在被曝光体的沿输送方向以规定间隔设定的 多个曝光区域的每个区域上形成不同的曝光图案。

并且，所述掩模台向所述被曝光体的输送方向移动。由此，使光掩模 向被曝光体的输送方向移动而进行掩模图案组的切换。

[发明效果]