[发明专利]基板清洗方法和基板清洗装置

权利要求书

1.一种基板清洗方法，通过研磨而清洗基板，其特征在于，包含：

搬运具有第1宽度的第1基板和具有比上述第1宽度大的第2宽度的第2基板的工序；

利用具有比上述第1宽度大的长度方向长度的辊型磨石研磨上述第1基板的工序；以及

利用上述辊型磨石研磨上述第2基板的工序，

在研磨上述第1基板的工序中，使上述辊型磨石在与上述第1基板的搬运方向垂直的方向沿着上述辊型磨石的上述长度方向滑动。

2.根据权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，在研磨上述第2基板的工序中，使上述辊型磨石在与上述第2基板的搬运方向垂直的方向沿着上述辊型磨石的上述长度方向滑动。

3.根据权利要求1或2所述的基板清洗方法，其特征在于，在研磨上述第1基板的工序中，上述辊型磨石以夹着上述第1基板的方式配置，研磨上述第1基板的表面和背面。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板清洗方法，其特征在于，以上述第1宽度和上述第2宽度沿着铅垂方向的方式搬运上述第1基板和上述第2基板。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板清洗方法，上述基板是液晶面板用的玻璃基板。

6.一种基板清洗装置，通过研磨而清洗基板，具备：

搬运基板的搬运装置；

研磨上述基板的辊型磨石；

使上述辊型磨石在相对于上述基板的搬运方向垂直的方向滑动的滑动装置。

7.根据权利要求6所述的基板清洗装置，上述辊型磨石以夹着上述基板的表面和背面的方式配置。

8.根据权利要求7或8所述的基板清洗装置，

上述基板是液晶面板用的玻璃基板，

还具备保持部，上述保持部以上述玻璃基板的表面和背面朝向铅垂方向的方式进行保持。