[发明专利]玻璃基板及其制造方法有效
申请号: | 201080019834.7 | 申请日: | 2010-05-07 |
公开(公告)号: | CN102414140A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 三和晋吉;柳濑智基 | 申请(专利权)人: | 日本电气硝子株式会社 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;C03C3/085;C03C3/087;C03C3/091;G02F1/1333;H01L51/50;H05B33/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一种玻璃基板,是具有第一表面和第二表面的玻璃基板,其特征在于,
第一表面的平均表面粗糙度Ra为0.2nm以下,
至少第二表面用大气压等离子体法进行了化学处理,并且平均表面粗糙度Ra为0.3~1.5nm。
2.如权利要求1所述的玻璃基板,其特征在于,
大气压等离子体法的气体源是含有F的气体。
3.如权利要求1或2所述的玻璃基板,其特征在于,
采用下拉法成型而成。
4.如权利要求1~3中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,
第一表面的面积和第二表面的面积超过0.2m2。
5.如权利要求1~4中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,
板厚为0.5mm以下。
6.如权利要求1~5中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,
作为玻璃组成,以下述氧化物换算的质量%计,含有SiO2 50~70%、Al2O3 10~20%、B2O3 0~15%、MgO+CaO+SrO+BaO 1~30%、MgO 0~10%、CaO 0~20%、SrO 0~20%、BaO 0~20%,并且基本上不含碱金属氧化物。
7.如权利要求1~6中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,
第一表面是形成电极线和/或各种器件的面,并且第二表面是不形成电极线和/或各种器件的面。
8.一种玻璃基板的制造方法,是具有第一表面和第二表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,
以使第一表面的平均表面粗糙度Ra为0.2nm以下、使第二表面的平均表面粗糙度Ra为0.3~1.5nm的方式,采用大气压等离子体法至少对第二表面进行化学处理。
9.如权利要求8所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,
作为大气压等离子体法的气体源,使用含有F的气体。
10.如权利要求9所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,
作为含有F的气体,使用CF4气体或SF6气体。
11.如权利要求8~10中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,
使大气压等离子体法的处理速度为0.5~10m/分钟。
12.如权利要求8~11中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,
化学处理前的第二表面的平均表面粗糙度Ra为0.2nm以下。
13.如权利要求8~12中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,
第一表面是形成电极线和/或各种器件的面,并且第二表面是不形成电极线和/或各种器件的面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电气硝子株式会社,未经日本电气硝子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080019834.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于手机的软件处理方法及手机
- 下一篇:一种发送双音多频信号的方法及装置