[发明专利]玻璃基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080019834.7 申请日: 2010-05-07
公开(公告)号: CN102414140A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 三和晋吉;柳濑智基 申请(专利权)人: 日本电气硝子株式会社
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;C03C3/085;C03C3/087;C03C3/091;G02F1/1333;H01L51/50;H05B33/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种玻璃基板,是具有第一表面和第二表面的玻璃基板,其特征在于,

第一表面的平均表面粗糙度Ra为0.2nm以下,

至少第二表面用大气压等离子体法进行了化学处理,并且平均表面粗糙度Ra为0.3~1.5nm。

2.如权利要求1所述的玻璃基板,其特征在于,

大气压等离子体法的气体源是含有F的气体。

3.如权利要求1或2所述的玻璃基板,其特征在于,

采用下拉法成型而成。

4.如权利要求1~3中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,

第一表面的面积和第二表面的面积超过0.2m2。

5.如权利要求1~4中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,

板厚为0.5mm以下。

6.如权利要求1~5中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,

作为玻璃组成,以下述氧化物换算的质量%计,含有SiO2 50~70%、Al2O3 10~20%、B2O3 0~15%、MgO+CaO+SrO+BaO 1~30%、MgO 0~10%、CaO 0~20%、SrO 0~20%、BaO 0~20%,并且基本上不含碱金属氧化物。

7.如权利要求1~6中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,

第一表面是形成电极线和/或各种器件的面,并且第二表面是不形成电极线和/或各种器件的面。

8.一种玻璃基板的制造方法,是具有第一表面和第二表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,

以使第一表面的平均表面粗糙度Ra为0.2nm以下、使第二表面的平均表面粗糙度Ra为0.3~1.5nm的方式,采用大气压等离子体法至少对第二表面进行化学处理。

9.如权利要求8所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,

作为大气压等离子体法的气体源,使用含有F的气体。

10.如权利要求9所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,

作为含有F的气体,使用CF4气体或SF6气体。

11.如权利要求8~10中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,

使大气压等离子体法的处理速度为0.5~10m/分钟。

12.如权利要求8~11中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,

化学处理前的第二表面的平均表面粗糙度Ra为0.2nm以下。

13.如权利要求8~12中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,

第一表面是形成电极线和/或各种器件的面,并且第二表面是不形成电极线和/或各种器件的面。

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