[发明专利]氧化锆膜的成膜方法

权利要求书

1.一种氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，包括：

将氧化锆微粒存放于密闭容器中，其中，该氧化锆微粒的平均粒径取值范围为0.7μm-11μm、比表面积的取值范围为1m²/g-7m²/g；

通过向该密闭容器导入气体来生成该氧化锆微粒的气溶胶；

通过连接于该密闭容器的输送管将该气溶胶输送至保持压力低于该密闭容器的成膜室；以及

将该氧化锆微粒堆积在存放于该成膜室中的基体材料上。

2.根据权利要求1所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，所述氧化锆微粒是平均粒径取值范围为1μm-5μm、比表面积的取值范围为1m²/g-4m²/g并且含有氧化钇的氧化锆微粒。

3.根据权利要求2所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，所述氧化锆微粒的平均粒径取值范围为1.9μm-4.6μm。

4.根据权利要求3所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，所述氧化钇在所述氧化锆微粒中的含量为8重量％-14重量％。

5.根据权利要求1所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，所述氧化锆微粒是平均粒径取值范围为0.7μm-11μm、比表面积的取值范围为1m²/g-6.5m²/g并且采用干式法制成的氧化锆微粒。

6.根据权利要求5所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，所述氧化锆微粒的平均粒径取值范围为0.7μm-10.2μm。

7.根据权利要求1所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，所述氧化锆微粒是平均粒径取值范围为2μm-4μm、比表面积的取值范围为4m²/g-7m²/g并且采用湿式法制成的氧化锆微粒。

8.根据权利要求7所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，所述氧化锆微粒的平均粒径取值范围是2.2μm-3.5μm。

9.根据权利要求1所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，该方法进一步包括以下步骤：

在将所述氧化锆微粒存放于所述密闭容器之前，对所述氧化锆微粒进行除气。

10.根据权利要求1所述的氧化锆膜的成膜方法，其特征在于，生成所述气溶胶的步骤是从设置在所述密闭容器内的被所述氧化锆微粒覆盖的气体喷出体来喷出所述气体，使得该氧化锆微粒在该容器内被吹浮并混合在该气体中。