[发明专利]流水式清洗方法和流水式清洗装置

权利要求书

1.一种流水式清洗方法，在清洗槽内使清洗液向横向流动，在使被清洗物浸渍在该清洗液中的状态下，一边向清洗液施加超声波振动一边进行被清洗物的清洗，其特征在于：

通过调整在向上述清洗槽供给清洗液的多个供给口和从上述清洗槽排出清洗液的多个排出口中的任一个供给口和/或排出口流动的清洗液的流量，来使上述清洗槽内的清洗液在层流的状态下流动。

2.根据权利要求1所述的流水式清洗方法，其特征在于：

从上述清洗槽的底面侧施加超声波振动。

3.根据权利要求1所述的流水式清洗方法，其特征在于：

作为上述被清洗物，进行由支架保持的基板的清洗时，以使该基板的主面与上述清洗液的流动方向平行的方式，将上述支架配置在上述浸渍槽内。

4.根据权利要求3所述的流水式清洗方法，其特征在于：

对以互相平行的状态排列多个地保持于上述支架的基板进行清洗，并且使保持于上述支架的多个基板的间隔密集到在其间流动的清洗液的流水阻力增加的范围。

5.根据权利要求3所述的流水式清洗方法，其特征在于：

将上述清洗槽的内表面与上述基板的最短距离设为该基板的直径的一倍以下。

6.根据权利要求1所述的流水式清洗方法，其特征在于：

清洗作为上述基板的磁记录介质用基板或磁记录介质。

7.根据权利要求1所述的流水式清洗方法，其特征在于：

将上述清洗液循环性地再使用。

8.一种流水式清洗装置，具备：

进行被清洗物的清洗的清洗槽；

向上述清洗槽供给清洗液的多个供给口；

从上述清洗槽排出清洗液的多个排出口；和

向上述清洗槽内的清洗液施加超声波振动的振动产生单元，

在上述清洗槽内使清洗液向横向流动，在使被清洗物浸渍在该清洗液中的状态下，一边向清洗液施加超声波振动一边进行被清洗物的清洗，

其特征在于：

具备调整在上述任一个供给口和/或排出口流动的清洗液的流量的流量调整单元。

9.根据权利要求8所述的流水式清洗装置，其特征在于：

上述振动产生单元配置在上述清洗槽的底面侧。

10.根据权利要求8所述的流水式清洗装置，其特征在于：

具备使上述清洗液循环的机构。