[发明专利]流水式清洗方法和流水式清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及适于在进行作为被清洗物的例如磁记录介质用基板和/或磁记录介质、磁记录介质的制造装置中使用的部件、溅射装置的挡板(シ一ルド板)等的清洗时适合使用的流水式清洗方法和流水式清洗装置。

本申请基于2009年5月15日在日本提交的特愿2009-119003号并要求其优先权，将其内容引用在这里。

背景技术

例如，使用形成有中心孔的圆盘状的铝基板、玻璃基板等来作为硬盘驱动器等使用的磁记录介质用的基板。该磁记录介质用基板经在表面进行研磨加工等各种表面处理工序而制作，因此在表面处理工序等之后，进行将在基板的表面上附着的尘埃等除去的基板清洗工序。

此外，随着要求磁记录介质的更高记录密度化，而需要磁记录介质的高平面度，另一方面，出了除去在磁记录介质用基板的表面上附着的尘埃等之外，还需要用于除去在磁记录介质的制造装置使用的部件和溅射装置的挡板等上附着的尘埃等的高度清洗技术。再有，在最近，在向磁记录介质用基板施行的成膜工序中，存在对基板表面设置湿式的清洗工序的情况。

作为该磁记录介质用基板等的清洗装置，提出了例如将磁盘基板等作为工件，在其表面上进行研磨加工等表面处理后，为了除去在工件的表面上附着的异物等，而使用多个清洗槽一边用传送带将工件依次输送到多个清洗槽一边在各清洗槽用液体来清洗的装置(例如，参照专利文献1)。

但是，在该专利文献1记载的清洗装置中，在清洗槽设置多个旋转刷、喷淋器等，在向一个个基板供给清洗液的同时使用旋转刷来刮刷清洗，但是，由于采用旋转刷与基板的表面接触的构成，因此有可能在该基板表面上产生擦伤痕迹。

因此，作为不使用旋转刷的清洗方法，提出了例如从清洗槽的底部供给清洗液，在使该清洗液从清洗槽的上部溢出的同时在清洗槽内的清洗液中浸渍保持基板的支架来进行基板的清洗的方法。

但是，在使清洗液从清洗槽的下方流向上方的清洗方法中，包含从基板的表面剥离的尘埃等的污染物质有时没有从清洗槽的上部与清洗液一同排出而使其一部分在清洗槽内滞留，且有时在该清洗槽内产生清洗液的沉淀。该情况下，在将支架从清洗槽提起时，在清洗液内滞留的污染物质有时再次附着在基板的表面上。

另一方面，提出了通过使清洗液在清洗槽内在层流的状态下向横向流动的同时、在该清洗槽内的清洗液中浸渍保持基板的支架来进行基板的清洗的流水式清洗装置的方案(例如，参照专利文献2等)。

在使该清洗液在层流的状态下向横向流动的清洗方法中，可将含有污染物质的清洗液快速地排出到浸渍槽外，因此可防止污染物质再次附着在基板的表面上。

现有技术文献

专利文献1：特开2001-96245号公报；

专利文献2：特开平9-206708号公报。

发明内容

发明所要解决的问题

但是，在上述专利文献2记载的流水式清洗装置中，为了防止从被清洗物剥离的污染物质随着清洗液的紊流(乱流)而再次附着在被清洗物上，而在流路内设置多孔状的整流板，调整清洗液的流动以通过经过该整流板而使清洗液的流动成为不紊乱那样的流动(层流)。

但是，在该流水式清洗装置中，在清洗槽内流动的清洗液成为层流是在该清洗槽内没有浸渍被清洗物时的情况。另一方面，在清洗槽内浸渍了被清洗物的情况下，在该清洗槽内流动的清洗液被被清洗物扰乱而成为紊流，有时因该紊流而使对于被清洗物的清洗能力下降。

此外，为了提高流水式清洗装置的清洗能力，而存在向清洗槽内施加超声波振动的情况。但是，有时因该超声波振动而将清洗槽内的层流扰乱。

再有，在上述专利文献2记载的流水式清洗装置中，具有将使用完的清洗液在储存箱中积蓄，并将该蓄积的清洗液循环使用的结构。但是，在该结构的情况下，清洗液易于与大气接触，且气泡进入清洗液中，有时会使该气泡在被清洗物的表面吸附而使清洗能力下降。

于是，本发明鉴于该以往的情况而提出，其目的是提供高效地除去在被清洗物的表面附着的尘埃等、且防止在清洗后该尘埃等在被清洗物的表面上再次附着的流水式清洗方法和流水式清洗装置。

用于解决问题的手段