[发明专利]异质结III-V光伏电池制造有效

专利信息
申请号: 201080021165.7 申请日: 2010-06-02
公开(公告)号: CN102428577A 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: S·W·比德尔;N·索萨·科尔茨;K·E·福格尔;D·萨达纳;G·沙希迪;D·沙尔耶迪 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20;H01L31/0725;H01L31/074;H01L31/075;H01L31/076
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 鲍进
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 异质结 iii 电池 制造
【说明书】:

相关申请的交叉引用

本申请要求2009年6月9日提交的美国临时申请No.61/185,247的权益。本申请还涉及代理案卷号YOR920100058US1、YOR920100060US1、FIS920100005US1以及FIS920100006US1,其中的每一个都被转让给国际商务机器公司(IBM)并且与本申请是同一天提交的,其中上述申请全都在这里引入作为参考。

技术领域

本公开一般涉及异质结光伏电池制造领域。

背景技术

基于硅(Si)的异质结本征薄层(HIT)光伏(PV)电池有可能包括加在两个非晶硅层(a-Si)之间的庞大的单晶硅(sc-Si)基础层。与只包含sc-Si的电池相比,通过在HIT电池中使用a-Si层,可以为HIT电池给予更宽的能带隙。此外,a-Si层还在a-Si与sc-Si基础层之间的接口上创建了使少数载流子不断远离该接口的能障,由此减小电池中的复合率。此外,还可以以相对低的温度处理a-Si。HIT电池结构可以具有范围在数十微米(μm)内的sc-Si衬底厚度。这个衬底厚度小于PV电池中的少数载流子的扩散长度,同时这个衬底厚度足以允许最大限度地吸收太阳光谱。

发明内容

在一个方面,提供了一种用于形成异质结III-V光伏(PV)电池的方法,所述方法包括:执行基础层从III-V衬底的晶片的层转移,所述基础层的厚度小于约20微米;在所述基础层上形成本征层;在所述本征层上形成非晶硅层;以及在所述非晶硅层上形成透明导电氧化物层。

在一个方面,提供了一种异质结III-V光伏(PV)电池,包括:包括III-V衬底的基础层,所述基础层的厚度小于约20微米;位于所述基础层上的本征层;位于所述本征层上的非晶硅层;以及位于所述非晶硅层上的透明导电氧化物层。

附加特征是通过本例示实施例的技术实现的。在这里还详细描述了其他实施例,并且将这些实施例视为要求保护的内容的一部分。为了更好地理解例示实施例的特征,在这里将会参考说明书和附图。

附图说明

现在将参考附图,其中相同的部件在若干个图中具有相同的附图标记:

图1示出的是借助剥离(spalling)形成单异质结III-V PV电池的方法的实施例。

图2示出的是具有背场(back surface field)、金属层和柔性衬底层的衬底的实施例。

图3示出的是使用柔性衬底层的剥离的实施例。

图4示出的是单异质结II-V PV电池的实施例。

图5示出的是借助剥离形成双异质结III-V电池的方法的实施例。

图6示出的是具有本征层、背场、非晶硅层、金属层以及柔性衬底层的衬底的实施例。

图7示出的是使用柔性衬底层的剥离的实施例。

图8示出的是双异质结III-V PV电池的实施例。

具体实施方式

在这里提供了用于制造异质结(HJ)III-V PV电池的系统和方法的实施例,并且在下文中详细论述了例示实施例。HJ太阳能电池可以使用基础层来形成,所述基础层包含基于III-V的衬底,诸如锗(Ge)或砷化镓(GaAs),以此来取代sc-Si。在基于III-V的衬底中,与衬底厚度相比,少数载流子的扩散长度相对小。与sc-Si不同,由于其直接能带隙,基于III-V的衬底的相对薄的层(厚度为几微米)能够有效吸收大部分太阳光谱。在一些实施例中,HJ III-V PV电池结构包括基础层,该基础层包括厚度小于约20微米的III-V衬底。通过在基础层的一侧淀积a-Si,可以形成单HJ电池,并且通过将a-Si淀积在基础层的两侧,可以形成双HJ电池。HJ III-V PV电池相对较轻和/或柔软,由此允许在不同的应用中使用HJ III-V PV电池。

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