[发明专利]成像光学部件以及具有此类型的成像光学部件的用于微光刻的投射曝光设备

权利要求书

1.一种成像光学部件(36；39；40)，具有多个反射镜(M1至M6)，所述多个反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)中，

-在成像光(3)的成像光束路径中、所述物场(4)之后具有第一个反射镜(M1)，

-在成像光(3)的成像光束路径中、所述像场(8)之前具有最后一个反射镜(M6)，

-其中，在展开的成像光束路径中，属于中心物场点的主光线(16)照射在每个用于引导所述成像光(3)的所述反射镜(M1至M6)的使用区域(23)上的照射点与所述像平面(9)具有镜间距(Z_M)，

其特征在于：

-所述第一个反射镜(M1)的镜间距(Z_M1)大于所述最后一个反射镜(M6)的镜间距(Z_M6)，

-倒数第四个反射镜(M3)的镜间距(Z_M3)大于所述第一个反射镜(M1)的镜间距(Z_M1)。

2.一种成像光学部件(7；36；37；38；39；40)，具有多个反射镜(M1至M6)，所述多个反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)中，

-其中，所述反射镜(M1至M6)中的至少一个的反射表面被设计为静态自由形状表面，所述静态自由形状表面不能通过旋转对称函数描述，

其特征在于：

-所述自由形状表面不同于与其最佳适配的、能够通过旋转对称函数描述的非球面(21)，使得：用于引导所述成像光(3)的所述自由形状表面的使用区域(23)的每个自由形状表面元素(20)的法线(FN)，相对于所述非球面(21)的对应非球面元素的法线(FNB)，采用最大值为70μrad的角度。

3.如权利要求1和2所述的成像光学部件。

4.如权利要求2或3所述的成像光学部件，其特征在于：所述自由形状表面偏离与其最佳适配的所述非球面(21)超过所述成像光(3)的波长，针对所述波长设计所述成像光学部件(7；36；37；38；39；40)。

5.如权利要求1至4中的任一项所述的成像光学部件，其特征在于：所述成像光学部件(7；36；37；38；39；40)精确地具有六个反射镜(M1至M6)。

6.如权利要求1至5中的任一项所述的成像光学部件，其特征在于：所有所述反射镜(M1至M6)的反射表面都被配置为自由形状表面。

7.如权利要求1至6中的任一项所述的成像光学部件，其特征在于像侧上的数值孔径大于0.3。

8.如权利要求1至7中的任一项所述的成像光学部件，其特征在于：所述像场(8)覆盖由具有至少1mm的范围的边(29，30，34，35)限定的区域。

9.如权利要求1至8中的任一项所述的成像光学部件，其特征在于最大均方根波前误差为25mλ，其中λ是所使用的成像光(3)的波长。

10.如权利要求1至9中的任一项所述的成像光学部件，其特征在于最大畸变为1.1nm。

11.如权利要求1至10中的任一项所述的成像光学部件，其特征在于最小远心度为3mrad。

12.如权利要求1至11中的任一项所述的成像光学部件，其特征在于：所述成像光学部件(7；36；37；38；39；40)被配置为用于微光刻的投射光学部件。

13.一种光学系统，具有如权利要求12所述的投射光学部件以及用于将所述照明光(3)导向所述成像光学部件(7)的物场(4)的照明光学部件(6)。

14.一种用于微光刻的投射曝光设备，具有如权利要求13所述的光学系统，并且

具有用于照明和成像光(3)的光源(2)。

15.如权利要求14所述的投射曝光设备，其特征在于：所述光源(2)被配置为产生具有5nm与30nm之间的波长的照明光。