[发明专利]板状体的研磨方法

说明书

技术领域

本发明涉及板状体的研磨方法，尤其是涉及利用研磨装置对液晶显示器用等中使用的FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用的玻璃基板进行研磨的板状体的研磨方法。

背景技术

在液晶显示器用等中使用的FPD用的玻璃基板通过被称为浮法的玻璃制法将熔融玻璃成形为板状，并利用专利文献1等所公开的连续式的研磨装置将其表面的微小的凹凸、波纹研磨除去，从而制造出满足了液晶显示器用玻璃基板所要求的平坦度的厚度约0.4～1.1mm的薄板。

在此种连续式研磨装置中，如专利文献2所记载那样，通常利用进行自转及公转的研磨垫(研磨工具)对玻璃基板进行研磨。

在现有的连续式研磨装置中，玻璃基板的与研磨对象面相反侧的面由粘结于工作台的吸附片吸附保持，被输送工作台的输送装置连续输送，且通过在该输送路径的上方设置的多台研磨机的研磨垫依次对研磨对象面进行研磨。研磨垫通过自转/公转机构以规定的旋转中心为中心进行旋转，并且以规定的公转中心为中心进行公转，同时对玻璃基板进行研磨。另外，在使用矩形的研磨垫时，仅进行公转运动。作为使用矩形的研磨垫的连续式研磨装置，存在仅由矩形的研磨垫构成的连续式研磨装置、将矩形的研磨垫和进行自转公转的圆形的研磨垫组合而成的连续式研磨装置。

专利文献1：日本国特开2007-190657号公报

专利文献2：日本国特开2001-293656号公报

发明内容

现有的研磨装置中，当随着研磨时间的经过而玻璃基板的研磨速率下降时，若研磨速率低于规定的阈值，则需要对该研磨垫进行修整或修饰，因此存在不能提高玻璃基板的生产效率这样的问题。另外，现有的研磨装置即使在没有研磨工具的修整或修饰的必要性时，由于研磨速率也会随着研磨时间的经过而下降，因此不能将研磨速率形成为大致一定而进行连续研磨，也存在研磨时间变长这样的问题。

本发明鉴于此种情况而作出，其目的在于提供一种能够将研磨速率控制成大致一定而对板状体进行研磨的板状体的研磨方法。

本发明提供一种板状体的研磨方法，一边使板状体沿着规定方向移动，一边利用进行自转的研磨工具对板状体进行研磨，其特征在于，使所述研磨工具的自转方向在规定时间反转。

对研磨工具进行微观观察而考虑将主体(硬质部)和毛刺(软质部)分离时，实际对板状体进行研磨的毛刺通过研磨、修整等而具有方向性。即，毛刺具有从研磨方向上游侧朝向下游侧倾斜的方向性。在具有此种方向性的状态下继续研磨时，由于毛刺相对于板状体的旋转阻力下降，因此研磨速率随着研磨时间的经过而下降。因此，在毛刺相对于板状体的旋转阻力成为规定值以下时，即，不能良好地实施基于毛刺的研磨时，在该时间使研磨工具反转。如此，毛刺沿着与该反转方向相反的方向具有方向性，因此此次一边从板状体接受大的旋转阻力一边对板状体进行研磨。毛刺最终要将方向改变成反转的方向，但在毛刺正接受规定的旋转阻力的研磨期间，即，在毛刺的旋转阻力超过规定值的研磨期间，在毛刺的旋转阻力的作用下研磨速率上升。

基于此种验证结果，本发明的特征在于，在研磨工具相对于板状体的旋转阻力成为所述规定的旋转阻力以下时，使研磨工具反转。由此，使研磨工具反转时，研磨速率上升，另外，虽然研磨速率逐渐下降，但在研磨工具的旋转阻力成为规定值以下时，再次使研磨工具反转而提升研磨速率。如此，通过基于从板状体接受的研磨工具的旋转阻力而反复进行研磨工具的反转，研磨速率不会大幅增减，由此能够将研磨速率控制为大致一定来进行研磨。

即，在本发明中，也可以使所述研磨工具的旋转方向以规定周期反复进行反转。

另外，也可以预先规定与用于使所述研磨工具旋转的电动机的负载电流值相关的下限值，对研磨时的负载电流的变化进行监视，并在该负载电流值达到下限值时使所述研磨工具的自转方向反转。

由于在研磨期间难以直接测定研磨速率，因此测定与研磨速率具有关联的电动机的负载电流值，并在负载电流值成为规定的值以下时，即，研磨工具的旋转阻力成为规定值以下时使研磨工具的自转方向反转。由此，根据本发明，能够将研磨速率控制为大致一定。此外，也可以每一定时间使研磨工具的自转方向反转。

另外，本发明也可以构成为所述研磨工具以规定的公转中心为中心进行公转，并且公转方向与自转方向的反转同时地进行反转。在进行自转、公转的研磨工具的情况下，从使自转轴旋转的转矩与使公转轴旋转的转矩的平衡关系出发，优选在自转方向反转的同时使公转方向也反转。