[发明专利]含羟基自由基水供给方法和含羟基自由基水供给装置无效

专利信息
申请号: 201080024514.0 申请日: 2010-06-01
公开(公告)号: CN102459092A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 田中忠玄;盐见元信;上野晃裕 申请(专利权)人: 仓敷纺织株式会社
主分类号: C02F1/72 分类号: C02F1/72;C02F1/78;C11D7/18;C11D7/26;C11D17/08;H01L21/304
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 陈万青;王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 羟基 自由基 供给 方法 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及含羟基自由基水供给方法和含羟基自由基水供给装置。

背景技术

众所周知,羟基自由基在活性氧类之中也具有极强的氧化作用,与很多种有机化合物(污染物质)反应,因而含有羟基自由基的水作为超纯水中TOC分解除去或分解、除去附着于晶片等固体表面的有机化合物的洗净液而有用。

例如,专利文献1中公开了一种洗净方法,其特征在于,在还原性物质存在下接触含臭氧气泡水与被洗净物,在该方法中生成羟基自由基。

此外,例如专利文献2中公开了一种洗净方法,其特征在于,在溶解臭氧的液体或使臭氧气体起泡的液体中浸渍被洗净物,对该浸渍后的被洗净物表面照射紫外光而进行洗净,该该方法中生成羟基自由基。

此外,现有技术中存在臭氧水供给方法,将含有臭氧分解抑制物质的臭氧水移送至使用点,在使用点附近由浓度调节单元降低至规定的臭氧浓度后进行供给(例如参照专利文献3)。上述浓度调节单元为对溶解臭氧进行分解的单元,具体地可列举超声波照射、紫外线照射、紊流产生、搅拌、加温、碱添加、过氧化氢添加等。

专利文献1:日本特开2001-54767号公报

专利文献2:日本特开平5-291221号公报

专利文献3:日本特开2005-294377号公报

然而,专利文献1、专利文献2所记载的方法中,羟基自由基的生成量少,所以要求能以较高效率生成羟基自由基的方法。特别是在使用紫外光的方法中,为了高浓度产生羟基自由基,存在需要引入大规模的紫外线照射设备或强紫外线灯的问题。进而,如专利文献2中对被洗净物表面直接照射紫外线的方法存在产生所谓阴面(陰)部分的问题。

此外,专利文献3所记载的臭氧水供给方法中,为了在移送中臭氧不分解的目的,添加有臭氧分解抑制物质,但并未以预先生成含羟基自由基水,将其移送并供给至使用点为目的。此外,在专利文献3所记载的臭氧水供给方法中,每个使用点均设有浓度调节单元,这被认为是基于即使预先生成羟基自由基,也不能将其移送的观点。

发明内容

本发明鉴于上述问题而作出,其目的在于,提供可简便地将较高浓度的含羟基自由基水供给至使用点的含羟基自由基水供给方法和含羟基自由基水供给装置。

为了实现上述目的,本发明人等进行仔细研究的结果发现,若将臭氧、过氧化氢和水溶性有机物等溶解于纯水,可以较高效率生成羟基自由基,且其浓度可维持几分钟,从而通过利用这一点完成了本发明。

即,本发明的含羟基自由基水供给方法的特征在于,包括:生成工序,将臭氧、过氧化氢以及选自由水溶性有机物、无机酸、所述无机酸的盐和肼构成的组中的至少一种以上的添加物质溶解于纯水而生成含羟基自由基水;移送工序,将生成的含羟基自由基水移送至使用点;和供给工序,在使用点供给移送后的含羟基自由基水。

根据上述结构,如果将臭氧、过氧化氢以及选自由水溶性有机物、无机酸、所述无机酸的盐和肼构成的组中的至少一种以上的添加物质溶解于纯水,可以较高效率生成羟基自由基。因此,无需如紫外线照射设备的大规模设备,可简便地生成高浓度含羟基自由基水。此外,将臭氧、过氧化氢和上述添加物质溶解于纯水而生成的含羟基自由基水可抑制含有的羟基自由基随时间的浓度降低。其结果,可将维持高浓度状态的含羟基自由基水移送并供给至使用点。而且,在本发明中,使用点是指使用生成的含羟基自由基水的设施、装置、场所等。

通常,含臭氧水(也包含含羟基自由基水)并不是在使用点制造,而是对一个设施在一个左右的场所制造,移送并供给至位于多个场所的使用点。根据上述结构,可在移送至使用点之前,生成含羟基自由基水,之后将浓度维持在某一程度的同时进行移送。因此,不用按照每个使用点生成含羟基自由基水,因而制造场所可集中在一个场所,在便利性上优异的同时,可降低含羟基自由基水的制造成本。

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