[发明专利]阴图制版可成像元件无效
申请号: | 201080027088.6 | 申请日: | 2010-05-28 |
公开(公告)号: | CN102804067A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | T·陶;E·E·克拉克;J·卡拉门 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03F7/029 | 分类号: | G03F7/029;G03F7/032;G03F7/033;B41C1/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张萍;杨思捷 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制版 成像 元件 | ||
发明领域
本发明涉及在成像层中含有芯-壳颗粒的阴图制版可成像元件,所述芯-壳颗粒在壳中具有两性离子官能团。本发明还涉及提供经成像及显影(processed)的元件(如平版印刷印版)的方法。
发明背景
对辐射敏感的组合物通常用于制备可成像材料(包括平版印刷印版前体)。此类组合物通常包含对辐射敏感的组分、引发剂系统和粘合剂,其中的每一种都是研究的焦点,以提供物理性能、成像性能和图像特征方面的各种改进的研究焦点。此类组合物通常作为可成像层来提供。
在印版前体领域内的最近开发涉及对辐射敏感的组合物的使用,所述组合物可通过激光器或激光二极管成像,更具体地,其可在印刷机上(on-press)成像和/或显影。激光曝光无需常规的卤化银制版胶片作为中间信息载体(或“掩模(masks)”),因为可通过计算机直接控制激光器。市售的图文影排机中使用的高性能激光器或激光二极管通常发射波长为至少700nm的辐射,因此要求对辐射敏感的组合物在电磁波谱的近红外或红外区是敏感的。然而,将其它有用的对辐射敏感的组合物设计用于用紫外辐射或可见光辐射进行成像。
存在两种可能的方式来使用对辐射敏感的组合物制备印版。对于阴图制版印版,使对辐射敏感的组合物中的曝光区硬化,在显影期间洗掉未曝光区。对于阳图制版印版,将曝光区溶解于显影剂中,未曝光区变成图像。
业界对改进阴图制版平版印刷印版前体的各种性能持续存在着需求,例如提高感光速度从而使得提供曝光区的所需硬化以及非曝光区的清洁显影的充分曝光需要较少的能量。
发明概述
本发明提供阴图制版可成像元件,所述元件包含其上具有可成像层的基材,该可成像层包含:
可自由基聚合组分;
引发剂组合物,其一经暴露于成像辐射,能够产生足以引发可自由基聚合组分聚合的自由基;
吸收辐射的化合物;
一种或更多种聚合物粘合剂;以及
至少5重量%芯-壳颗粒,其包含疏水性聚合物芯和与该聚合物芯共价结合的亲水性聚合物壳,所述亲水性聚合物壳包含一种或更多种两性离子官能团。
在一些实施方式中,对红外辐射敏感的阴图制版平版印刷印版前体包含其上具有可成像层的含铝基材,所述可成像层包含:
可自由基聚合组分;
引发剂组合物,其一经暴露于成像辐射,能够产生足以引发可自由基聚合组分聚合的自由基,该引发剂组合物包含碘鎓硼酸盐;
吸收红外辐射的染料;
一种或更多种聚合物粘合剂;以及
10~30重量%芯-壳颗粒,其包含疏水性聚合物芯以及与该聚合物芯共价结合的亲水性聚合物壳,所述疏水性聚合物芯包含一种或更多种甲基丙烯酸C1~C3烷基酯的重复单元,所述亲水性聚合物壳包含含有磺基甜菜碱官能团的重复单元,其中芯-壳颗粒中亲水性聚合物壳与疏水性聚合物芯的重量比为1∶15~1∶6。
本发明还提供一种提供成像元件的方法,其包括:
(A)对本发明的阴图制版可成像元件进行成像曝光,以形成曝光区和非曝光区;
(B)使用显影液对成像曝光的元件进行脱离印刷机(off-press)显影,以仅主要除去非曝光区。
该方法可用于例如提供具有阳极氧化的含铝基材的成像的平版印刷印版。
我们发现,在阴图制版成像组合物和元件中使用本文所描述的特定芯-壳聚合物颗粒,提供意想不到的优点。该聚合物颗粒在通常用来涂布平版印刷印版成像组合物的有机溶剂(如醇类和酮类)或水/溶剂混合物中具有令人惊讶的稳定性。“稳定”表示聚合物颗粒在涂层溶剂混合物中不发生附聚或溶解。在下面对聚合物胶乳A~E的合成的描述中,对稳定性的代表性试验进行了描述。这些芯-壳聚合物颗粒的使用通过我们目前未知的机制意想不到地提供了对感光速度(敏感度)的改进。
附图简述
图1示出了从以下实施例中所描述的两种聚合物胶乳样品获得的1H-NMR波谱。
图2是以下实施例中描述的数个成像元件的光密度对曝光能量(mJ/cm2)的图。
发明详述
除非上下文另有说明,当在本文使用时,术语“阴图制版可成像元件”和“平版印刷印版前体”意味着参考本发明的实施方式。
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