[发明专利]曝光装置及装置制造方法有效

专利信息
申请号: 201080027247.2 申请日: 2010-06-21
公开(公告)号: CN102460305A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 一之濑刚 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 朱胜;陈炜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,其经由被第一支撑构件所支撑的光学系统,通过能量光束将物体曝光,所述装置包括:

移动体,其保持所述物体,并可沿着指定的二维平面移动;

引导面形成构件,其形成所述移动体沿着所述二维平面移动时的引导面;

第一驱动系统,其驱动所述移动体;

第二支撑构件,其经由所述引导面形成构件,从所述引导面形成构件离开而布置于与所述光学系统相反的一侧,并固定于所述第一支撑构件;及

测量系统,其包括第一测量构件,所述第一测量构件用测量光束照射与所述二维平面平行的测量面,并接收来自所述测量面的光,并且所述测量系统依据该第一测量构件的输出获得所述移动体至少在所述二维平面内的位置信息,所述测量面设于所述移动体与所述第二支撑构件中的一个处,所述第一测量构件的至少一部分设于所述移动体与所述第二支撑构件的另一个处。

2.根据权利要求第1项所述的曝光装置,其中所述第二支撑构件是平行于所述二维平面布置的梁状构件。

3.根据权利要求第2项所述的曝光装置,其中所述梁状构件在其长度方向的两端部以垂挂状态固定到所述第一支撑构件。

4.根据权利要求第1~3项中任一项所述的曝光装置,其中在所述测量面上布置其周期方向在平行于所述二维平面的方向上的光栅,

所述第一测量构件包括编码器头,所述编码器头用所述测量光束照射所述光栅,并接收来自所述光栅的衍射光。

5.根据权利要求第1~4项中任一项所述的曝光装置,其中所述引导面形成构件是平台,所述平台布置在所述第二支撑构件的所述光学系统侧,从而与所述移动体相对,并且,所述平台具有平行于在与所述移动体相对的一侧的一个表面上形成的所述二维平面的所述引导面。

6.根据权利要求第5项所述的曝光装置,其中所述平台具有所述测量光束能够通过的光透过部。

7.根据权利要求第5或6项所述的曝光装置,其中第一驱动系统包括平面马达,所述平面马达具有设于所述移动体的动子与设于所述平台的定子,通过在该定子与所述动子之间产生的驱动力而驱动所述移动体。

8.根据权利要求第7项所述的曝光装置,其中进一步具备基座构件,所述基座构件支撑所述平台使得所述平台能够在平行于所述二维平面的平面内移动。

9.根据权利要求第8项所述的曝光装置,其中进一步具备平台驱动系统,所述平台驱动系统包括设于所述基座构件的定子与设于所述平台的动子,并且通过在该动子与所述定子之间产生的驱动力,而相对于所述基座构件驱动所述平台。

10.根据权利要求第1~9项中任一项所述的曝光装置,其中所述测量面设于所述移动体上,

所述第一测量构件的所述至少一部分布置于所述第二支撑构件上。

11.根据权利要求第10项所述的曝光装置,其中所述移动体具有第一表面和第二表面,所述第一表面与所述光学系统相对且平行于所述二维平面,在所述第一表面上放置所述物体,所述第二表面在与所述第一表面相反的一侧且平行于所述二维平面,在所述第二表面上布置所述测量面。

12.根据权利要求第10或11项所述的曝光装置,其中所述移动体包括:第一移动构件,其通过所述第一驱动系统而驱动;及第二移动构件,其保持所述物体,并由所述第一移动构件支撑从而能够相对于所述第一移动构件移动;

所述测量面布置于所述第二移动构件。

13.根据权利要求第12项所述的曝光装置,其中进一步具备第二驱动系统,所述第二驱动系统在包括在所述二维平面内彼此正交的第一轴方向及第二轴方向的六个自由度方向上相对所述第一移动构件驱动所述第二移动构件。

14.根据权利要求第10~13项中任一项所述的曝光装置,其中所述测量系统具有一个或二个或更多个所述第一测量构件,所述第一测量构件在所述测量面上实质的测量轴通过的测量中心与作为照射于所述物体的能量光束的照射区域中心的曝光位置一致。

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