[发明专利]曝光装置及装置制造方法有效
申请号: | 201080027247.2 | 申请日: | 2010-06-21 |
公开(公告)号: | CN102460305A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 一之濑刚 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 朱胜;陈炜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 制造 方法 | ||
技术领域
本发明关于一种曝光装置及装置制造方法,更详细而言,关于经由光学系统而通过能量光束曝光物体的曝光装置,及使用该曝光装置的装置制造方法。
背景技术
先前制造半导体组件(集成电路等)、液晶显示组件等的电子装置(微型装置)的微影工艺,主要使用步进及反复方式的投影曝光装置(亦即步进机),或是步进及扫描方式的投影曝光装置(亦即扫描步进机(亦称为扫描仪))等。此种投影曝光装置具有保持晶圆或玻璃板等基板(以下统称为晶圆),并将该晶圆沿着指定的二维平面内驱动的载台装置。
载台装置为了进行精确曝光,而要求精确控制载台的位置,此外,为了提高曝光动作的通量,而要求载台的高速且高加速度化。响应于此要求,近年来开发出使用电磁力驱动方式的平面马达,控制晶圆在二维平面内的位置的载台装置(例如参照专利文献1)。
此外,例如在专利文献2的第五种实施形态中揭示有:在形成于平台上面的凹部内布置编码器头的曝光装置。记载于专利文献2的曝光装置,通过对布置于晶圆载台的二维光栅,从正下方入射测量光束,而精确测量晶圆载台的位置信息。
但是对揭示于专利文献2的第五种实施形态的在平台内布置编码器头的曝光装置,适用揭示于专利文献1的晶圆载台具有动子并且平台具有定子的平面马达时,在驱动晶圆载台时,可能因作用于平台的反作用力造成编码器系统的测量精度降低。
【先前技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】美国专利第6,437,463号说明书
【专利文献2】美国专利申请公开第2008/0094594号说明书
发明内容
本发明第一实施例提供第一曝光装置,其经由被第一支撑构件所支撑的光学系统,而通过能量光束将物体曝光,且具备:移动体,其保持前述物体,并可沿着指定的二维平面移动;引导面形成构件,其形成前述移动体沿着前述二维平面移动时的引导面;第一驱动系统,其驱动前述移动体;第二支撑构件,其经由前述引导面形成构件,从前述引导面形成构件离开而布置于与前述光学系统相反的一侧,并固定于前述第一支撑构件;及测量系统,其包括第一测量构件,前述第一测量构件用测量光束照射与前述二维平面平行的测量面,并接收来自前述测量面的光,并且前述测量系统依据该第一测量构件的输出获得前述移动体至少在前述二维平面内的位置信息,前述测量面设于前述移动体与前述第二支撑构件中的一个处,前述第一测量构件的至少一部分设于前述移动体与前述第二支撑构件的另一个处。
根据该装置,测量系统包括第一测量构件,前述第一测量构件的至少一部分设于前述移动体与前述第二支撑构件的另一个处。前述第一测量构件用测量光束照射在设于移动体与第二支撑构件中的一个处的测量面上,并接收来自前述测量面的光,并且前述测量系统依据前述第一测量构件的输出获得前述移动体至少在前述二维平面内的位置信息。此外,其上设有第一测量构件的至少一部分或测量面的第二支撑构件被固定于支撑光学系统的第一支撑构件。因而可抑制移动体周边环境气体变动等的影响,而通过测量系统并以光学系统的位置作为基准而精确测量移动体的位置信息。再者,由于经由引导面形成构件而在与光学系统相反的一侧,从引导面形成构件离开而布置第二支撑构件,因此不致因移动体的驱动力的反作用力而降低测量精度。
在这种情况下,所谓引导面,是指在与移动体的前述二维平面正交的方向引导移动体,可为接触型,亦可为非接触型。例如非接触型的引导方式,包括使用气垫等气体静压轴承的结构,或使用磁浮的结构等。此外,并非限定于按照引导面的形状而引导移动体。例如使用前述的气垫等的气体静压轴承的结构是引导面形成构件的与移动体相对的面被加工成良好平面度,移动体按照其相对面的形状经由指定的间隙被非接触式引导。另外,将使用电磁力的马达等的一部分布置于引导面形成构件,并也在移动体上布置其一部分,两者互相配合而产生作用于与前述二维平面正交的方向的力的结构,通过该力在指定的二维平面上控制移动体的位置。例如亦包括以下的结构:在引导面形成构件上设置平面马达,而在移动体上产生包括在二维平面内正交的两个方向及与二维平面正交的方向的方向上的力,并且不设置前述气体静压轴承,而使移动体非接触浮起。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080027247.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种缠绕电磁线张力调整机构
- 下一篇:一种电机定子夹具