[发明专利]口腔正畸支架的表面镀膜方法

权利要求书

1.一种口腔正畸支架的表面镀膜方法，其特征在于，包括：第一过程和第二过程，上述第一过程S100清洗口腔正畸支架100而清除其表面异物，该口腔正畸支架是对陶瓷进行磨工工作，或烧结成型、注塑成型、压力加工而制作的，上述口腔正畸支架的背面110起到直接粘合到牙齿的粘合面作用，并在背面110的反面外侧形成有用于插入将多个支架100进行连接的口腔正畸金属线200的槽120；

上述第二过程S200是使用通过空心阴极放电(Hollow Cathode Discharge)方法产生电子束以使钛电离为蒸镀粒子的离子镀(ion plating)装置，在由清除其表面异物的陶瓷制作的支架的表面形成用于减少与上述金属线之间的摩擦力的厚度的钛镀膜层。

2.根据权利要求1所述的口腔正畸支架的表面镀膜方法，其特征在于，

上述第一过程S100中，首先使用碱性清洗剂或超声波清洗器将由陶瓷制作的支架100的表面异物清除之后，紧接着用水将上述支架100进行清洗，最后使用酒精或丙酮将上述支架100的表面异物彻底清除，并进行干燥。

3.根据权利要求1所述的口腔正畸支架的表面镀膜方法，其特征在于，

上述第二过程S200包括：第一步骤S210，在设置于上述离子镀装置(300)的腔体310内部并传递接收电动机(M)的旋转力而向一定角度旋转的支架座320上固定用于镀膜作业的多个支架100，并且在收纳作为镀膜物质的钛(Ti)的靶电极330里收纳钛(Ti)；

第二步骤S220，为了便于在上述支架100的表面形成钛镀膜层，将设置于上述离子镀装置300的腔体310内侧的加热器340以200～300℃的温度范围预热运转30～50分钟，从而引导收纳于上述腔体310的上述支架100的表面组织的变化；

第三步骤S230，将上述支架100进行预热之后，停止运转上述加热器340，并将上述支架100冷却3～5分钟，以维持上述支架100的变化的表面组织，并运转设置于上述腔体310的一侧的真空泵P，而将形成钛镀膜层所需的腔体310内部的真空度形成为(1.0～5.0×10)-3torr；

第四步骤S240，当上述腔体310内部维持形成钛镀膜层的真空度时，接着通过形成于上述腔体310一侧的多个气体投入口311向上述腔体310内部投入500～300sccm(标准立方厘米/分钟)的氩(Ar)气体4～10分钟，并向空心阴极放电(HCD)电子枪360和上述靶电极330施加从电子束电源部350供应的产生电子束用电源，使产生基于辉光放电(glow discharge)的电子束，将氩(Ar)气体进行电离，并将收纳于靶电极330的钛(Ti)蒸发为原子或分子形状的粒子，由此在上述腔体310内部生成包括氩离子(Ar+)和钛(Ti)蒸发粒子的等离子；

第五步骤，在S250上述腔体310内部生成等离子的状态下，为了将上述腔体310内部的温度维持在1000～1500℃，减少向腔体310内部投入的氩气体的量的同时投入5～10分钟，从而将钛(Ti)蒸发为原子或分子形态的粒子，同时向上述支架座320以30秒～1分钟的间隔施加从偏压电源部370供应的50～100V的蒸镀用偏压电源5～10分钟，而在支架100的表面上形成厚度的钛镀膜层，以便减少与上述金属线200之间的摩擦力；

以及第六步骤S260，形成镀膜层后，阻断产生电子束电源和偏压电源，并将上述支架100冷却60～90分钟，之后当上述腔体310内部的温度降低至50～80℃的温度范围时，将上述支架100向腔体310外抽取以完成镀膜。