[发明专利]用于镍-磷存储盘的抛光组合物

权利要求书

1.化学-机械抛光组合物，其包含：

(a)热解氧化铝颗粒；

(b)α-氧化铝颗粒；

(c)基本上呈球形的非聚集硅石颗粒；

(d)过氧化氢；

(e)亚胺基羧酸；和

(f)水。

2.权利要求1的抛光组合物，其中该抛光组合物包含0.1重量％至3重量％的热解氧化铝颗粒、0.1重量％至1重量％的α-氧化铝颗粒、和0.5重量％至5重量％的基本上呈球形的非聚集硅石颗粒。

3.权利要求1的抛光组合物，进一步包含非离子表面活性剂。

4.权利要求3的抛光组合物，其中该非离子表面活性剂是包含硅氧烷单元、亚乙基氧单元、和亚丙基氧单元的共聚物表面活性剂。

5.权利要求1的抛光组合物，其中该亚胺基羧酸是羟基亚胺基二琥珀酸四钠。

6.权利要求1的抛光组合物，其中该抛光组合物包含0.5重量％至2重量％的过氧化氢。

7.化学-机械抛光组合物，其包含：

(a)热解氧化铝颗粒；

(b)α-氧化铝颗粒；

(c)基本上呈球形的非聚集硅石颗粒；

(d)非离子表面活性剂；

(e)包含过氧化氢、过硫酸氢钾、和过硫酸钠的氧化剂；

(f)络合剂；和

(g)水。

8.权利要求7的抛光组合物，其中该抛光组合物包含0.1重量％至3重量％的热解氧化铝颗粒、0.1重量％至1重量％的α-氧化铝颗粒、和0.5重量％至5重量％的基本上呈球形的非聚集硅石颗粒。

9.权利要求7的抛光组合物，其中该非离子表面活性剂是包含硅氧烷单元、亚乙基氧单元、和亚丙基氧单元的共聚物表面活性剂。

10.权利要求7的抛光组合物，其中该抛光组合物包含0.1重量％至5重量％的络合剂。

11.权利要求7的抛光组合物，其中该络合剂是氨基酸。

12.权利要求7的抛光组合物，其中该络合剂是甘氨酸。

13.权利要求7的抛光组合物，其中该抛光组合物包含0.05重量％至0.3重量％的过氧化氢、0.1重量％至0.5重量％的过硫酸氢钾、和0.5重量％至1重量％的过硫酸钠。

14.化学-机械抛光基材的方法，其包括：

(i)使基材与抛光垫和包含以下物质的化学-机械抛光组合物接触：

(a)热解氧化铝颗粒；

(b)α-氧化铝颗粒；

(c)基本上呈球形的非聚集硅石颗粒；

(d)过氧化氢；

(e)亚胺基羧酸；和

(f)水；

(ii)使该抛光垫相对于该基材移动，其中所述化学-机械抛光组合物在它们之间；和

(iii)磨蚀该基材的至少一部分以抛光该基材。

15.权利要求14的方法，其中该抛光组合物包含0.1重量％至3重量％的热解氧化铝颗粒、0.1重量％至1重量％的α-氧化铝颗粒、和0.5重量％至5重量％的基本上呈球形的非聚集硅石颗粒。

16.权利要求14的方法，其中该抛光组合物进一步包含非离子表面活性剂。

17.权利要求14的方法，其中该非离子表面活性剂是包含硅氧烷单元、亚乙基氧单元、和亚丙基氧单元的共聚物表面活性剂。

18.权利要求14的方法，其中该亚胺基羧酸是羟基亚胺基二琥珀酸四钠。

19.权利要求14的方法，其中该抛光组合物包含0.5重量％至2重量％的过氧化氢。

20.权利要求14的方法，其中该基材包含镍-磷涂布的铝盘。

21.权利要求20的方法，其中该盘是存储盘。