[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法

说明书

技术领域

本发明是关于一种物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法，更详言之，是对平板状物体进行既定的处理的物体处理装置、以能量束使前述物体曝光的曝光装置及曝光方法、以及使用前述物体处理装置、前述曝光装置及前述曝光方法的任一者的元件制造方法。

背景技术

以往，在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微型元件)的光刻过程中，主要使用步进重复方式的投影曝光装置(所谓步进机)、或步进扫描方式的投影曝光装置(所谓扫描步进机(亦称扫描器))等。

在此种曝光装置中，作为曝光对象物而于表面涂布有感光剂的玻璃板或晶圆等基板(以下总称为基板)载置于基板载台装置上。之后，通过对形成有电路图案的掩膜(或标线片)照射曝光用光，且将经由该掩膜的曝光用光经由投影透镜等光学系统照射于基板，以将电路图案转印至基板上(参照例如专利文献1(及对应的专利文献2))。

近年来，曝光装置的曝光对象物即基板、特别是液晶显示元件用的基板(矩形玻璃基板)的尺寸例如为一边三米以上等，有大型化的倾向，于是，曝光装置的载台装置尺寸亦大型化，其重量亦增大。因此，被期望开发出一种载台装置，是能将曝光对象物(基板)高速且高精度地导引，进而可谋求小型化、轻量化的简单构成。

引文列表

专利文献

[专利文献1]PCT国际公开第2008/129762号

[专利文献2]美国发明专利申请公开第2010/0018950号说明书

发明内容

根据本发明的第1态样，是提供一种物体处理装置，是对平板状物体进行既定处理，该平板状物体是沿包含彼此正交的第1及第2轴的既定二维平面配置，该物体处理装置具备：执行装置，是对前述物体一面侧的一部分区域执行既定动作；调整装置，具有从前述物体下方以非接触状态保持前述物体中包含前述部分区域的部分的保持面，调整前述部分在与前述二维平面交叉的方向的位置；以及非接触支承装置，是使支承面对向于前述物体的被前述调整装置保持的部分以外的其他区域，以从下方以非接触方式支承前述物体。

根据上述，平板状物体是被非接触支承装置从下方以非接触方式支承。又，通过执行装置对物体的一部分进行既定动作，并且被进行该既定动作的部分是特别被调整装置从下方以非接触方式保持，而调整该部分在与二维平面交叉的方向的位置。因此，能精度良好地对物体进行既定处理。又，调整装置由于仅精确调整物体中被进行既定动作的部分，因此与调整物体整体在与二维平面交叉的方向的位置的情形相较，能使装置构成简单化。

根据本发明的第2态样，是提供一种曝光装置，是照射能量束使物体曝光据以将既定图案形成于前述物体上，其具备：定点载台，其包含从前述物体下方以非接触状态保持前述物体的包含被照射前述能量束的一部分区域的部分的构件，以调整前述部分在与前述二维平面交叉的方向的位置，该物体是沿包含彼此正交的第1及第2轴的既定二维平面配置；以及非接触支承装置，是使支承面对向于前述物体的被前述保持面保持的部分以外的其他区域，以从下方以非接触方式支承前述物体。

根据上述，平板状物体是被非接触支承装置从下方以非接触方式支承。又，物体中包含被照射前述能量束的一部分区域的部分特别被定点载台从下方以非接触方式保持，而调整该部分在与二维平面交叉的方向的位置。因此，能精度良好地使物体曝光。又，由于定点载台仅精确调整物体中被照射能量束的部分，因此与调整物体整体在与二维平面交叉的方向的位置的情形相较，能使装置构成简单化。

根据本发明的第3态样，是提供一种元件制造方法，其包含：使用本发明的物体处理装置或曝光装置使前述物体曝光的动作；以及使前述已曝光的物体显影的动作。

此处，通过使用平面面板显示器用的基板作为物体，而提供一种制造平面面板显示器作为元件的制造方法。

根据本发明的第4态样，是提供一种曝光方法，是照射能量束使物体曝光据以将既定图案形成于前述物体上，其包含：通过在二维平面内的位置为固定的保持构件，从前述物体下方以非接触状态保持前述物体的包含被照射前述能量束的一部分区域的部分，以调整前述部分在与二维平面交叉的方向的位置的动作，该物体是沿包含彼此正交的第1及第2轴的既定二维平面配置；以及使一支承构件的支承面对向于前述物体的被前述保持构件保持的部分以外的其他区域，以从下方以非接触方式支承前述物体的动作。