[发明专利]物体移动装置、物体处理装置、曝光装置、物体检查装置及元件制造方法有效
申请号: | 201080036924.7 | 申请日: | 2010-08-17 |
公开(公告)号: | CN102483579A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 青木保夫;滨田智秀;白数广;户口学 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;B65G49/06;H01L21/68 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 物体 移动 装置 处理 曝光 检查 元件 制造 方法 | ||
1.一种物体移动装置,其使一平板状物体移动,该平板状物体沿包含彼此正交的第1及第2轴的一既定二维平面所配置,该物体移动装置具备:
一移动体,其保持前述物体的一端部并可沿前述二维平面移动;
一驱动装置,其将前述移动体驱动于前述二维平面内的至少一轴方向;以及
一非接触支承装置,其在前述移动体被前述驱动装置驱动时,使其支承面对向于前述物体的下面以从下方以非接触方式支承前述物体。
2.如权利要求1所述的物体移动装置,其中,前述移动体具有沿前述物体的端部延伸设置的一框状构件所构成的一本体部。
3.如权利要求2所述的物体移动装置,其中,前述移动体具有一从下方通过吸附以保持前述物体外周缘部的至少一部分的保持构件;
前述保持构件,可相对前述本体部在保持有前述物体的状态下位移于与前述二维平面正交的方向。
4.如权利要求3所述的物体移动装置,其中,前述保持构件较前述物体下面更往下方突出设置,该突出量小于前述非接触支承装置的前述支承面与前述物体下面间的距离。
5.如权利要求2至4中任一项所述的物体移动装置,其中,前述本体部具有一通过相对前述物体而在与前述二维平面平行的方向的相对移动而容许该物体通过的开口部。
6.如权利要求2所述的物体移动装置,其中,前述移动体具有一按压装置,该按压装置通过从前述本体部的内壁面中彼此对向的一对对向面的一面往另一面按压前述物体,以使该物体保持于前述本体部。
7.如权利要求2至6中任一项所述的物体移动装置,其进一步具备一光干涉仪系统,该光干涉仪系统通过分别对前述本体部的与前述第1轴正交的第1外侧面、以及与前述第2轴正交的第2外侧面照射测距光束且接收其反射光,以求出前述本体部在前述二维平面内的位置信息。
8.如权利要求1至6中任一项所述的物体移动装置,其进一步具备一光干涉仪系统,该光干涉仪系统通过对设于前述移动体的反射面照射一测距光束且接收其反射光,以求出前述移动体在前述二维平面内的位置信息。
9.如权利要求1至8中任一项所述的物体移动装置,其中,前述驱动装置包含一与前述第1轴平行延伸设置的第1导引构件、一在前述第1导引构件上移动于与前述第1轴平行的方向的第1移动构件、一与前述第2轴平行延伸设置且连接于前述第1移动构件的第2导引构件、以及一保持前述移动体并在前述第2导引构件上移动于与前述第2轴平行的方向的第2移动构件;
前述第1导引构件及前述第1移动构件配置于较前述既定二维平面更下方。
10.如权利要求9所述的物体移动装置,其中,多个前述第1导引构件在与前述第2轴平行的方向以一既定间隔设置;
多个前述第1移动构件与前述多个第1导引构件对应地设置;
前述第2导引构件架设于前述多个第1移动构件之上。
11.如权利要求9或10所述的物体移动装置,其中,前述第2导引构件配置于较前述非接触支承装置的前述支承面更上方,该第2导引构件的下面通过前述非接触支承装置以非接触状态支承。
12.如权利要求9至11中任一项所述的物体移动装置,其中,前述第2移动构件以非接触方式支承于前述第2导引构件。
13.如权利要求9至12中任一项所述的物体移动装置,其中,多个前述第2移动构件在与前述第2轴平行的方向以一既定间隔设置;
前述移动体的多个部位被前述多个第2移动构件保持。
14.如权利要求9至13中任一项所述的物体移动装置,其中,前述移动体以非接触方式保持于前述第2移动构件。
15.如权利要求14所述的物体移动装置,其中,前述驱动装置具备一将前述移动体相对前述第2移动构件在与前述二维平面平行的方向微幅驱动的微幅驱动装置。
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