[发明专利]曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法有效
申请号: | 201080037585.4 | 申请日: | 2010-08-24 |
公开(公告)号: | CN102549501A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 柴崎祐一 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 曹瑾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 方法 以及 组件 制造 | ||
1.一种曝光装置,藉由能量束使物体上配置成矩阵状的多个区划区域依序曝光,以于该多个区划区域分别形成图案,该装置包括:
移动体,保持物体沿既定平面移动;
位置测量系统,具备设于该移动体的多个读头,根据该多个读头中对与该移动体对向配置成与该既定平面略平行、一部分具有开口的测量面照射测量光束并接收来自该测量面的返回光束以测量该移动体在各个测量方向的位置的既定数目的读头的测量结果,求出该移动体的位置信息;以及
控制系统,根据以该位置测量系统求出的该位置信息驱动该移动体,并视该移动体的位置将用于算出该移动体位置信息的该既定数目的读头中的至少一个切换为其它读头;
该多个读头中,在该既定平面内于第1方向分离的二个读头的分离距离大于在该第1方向的该开口的宽度。
2.如权利要求1的曝光装置,其中,在该第1方向上分离的该二个读头的分离距离大于在该第1方向上的该开口的宽度与该多个区划区域分别在该第1方向上的宽度的和。
3.如权利要求1或2的曝光装置,其中,该多个读头中,在与该既定平面内的该第1方向垂直的第2方向上分离的二个读头的分离距离大于在该第2方向上的该开口的宽度。
4.如权利要求3的曝光装置,其中,在该第2方向上分离的该二个读头的分离距离大于在该第2方向上的该开口的宽度与多个区划区域分别在该第2方向上的宽度的和。
5.如权利要求1至4中任一项的曝光装置,其中,该测量面由该多个读头分别对向的多部分构成。
6.如权利要求1至5中任一项的曝光装置,其中,于该测量面上形成以在该既定平面内彼此正交的2轴方向为周期方向的二维光栅。
7.如权利要求6的曝光装置,其中,该多个读头分别至少以该2轴方向中的至少一个方向为测量方向。
8.如权利要求1至7中任一项的曝光装置,其中,该多个读头分别至少以垂直于该既定平面的方向为测量方向。
9.如权利要求1至8中任一项的曝光装置,其中,该控制系统根据以该位置测量系统求出的位置信息,为了将该图案形成于该多个区划区域中的受致于形成的区划区域,将该移动体等速驱动于该第1方向,该等速驱动后,朝用以对该多个区划区域的下个受致于形成的区划区域进行该图案形成的等速驱动开始点,步进驱动该移动体。
10.如权利要求9的曝光装置,其中,该控制系统在进行该等速驱动后,切换用于算出该移动体位置信息的读头。
11.如权利要求10的曝光装置,其中,该控制系统在该等速驱动的期间,使用该多个读头的测量结果作成用以重设该切换后使用的读头的测量结果的偏移,并使用该偏移重设该读头的测量结果。
12.如权利要求1至11中任一项的曝光装置,其中,该控制系统根据以该位置测量系统求出的位置信息,朝着用以在该多个区划区域中的受致于形成的区划区域形成该图案的等速驱动开始点步进驱动该移动体,在该步进驱动后,为于该受致于形成的区划区域形成该图案而从该开始点于该第1方向等速驱动该移动体。
13.如权利要求12的曝光装置,其中,该控制系统在该等速驱动前,切换用于算出该移动体位置信息的读头。
14.如权利要求13的曝光装置,其中,该控制系统于该读头的切换前,使用该多个读头的测量结果作成用以重设该切换后使用的读头的测量结果的偏移,并使用该偏移重设该读头的测量结果。
15.如权利要求14的曝光装置,其中,该控制系统修正该移动体的加速引起的该多个读头的测量误差。
16.如权利要求14或15的曝光装置,其中,该控制系统于该步进驱动的路径内设置冗长区间,在该移动体等速移动于该冗长区间的期间作成该偏移。
17.如权利要求14至16中任一项的曝光装置,其中,在该第1方向上分离的该二个读头的分离距离,大于在该第1方向上的该开口的宽度与该步进驱动于该第1方向的距离的2倍的和。
18.如权利要求12至17中任一项的曝光装置,其进一步包括:
保持形成有该图案的原版光罩的光罩载台,其中
该控制系统在于该第1方向等速驱动该移动体时,与此同步将该光罩载台驱动于该第1方向。
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