[发明专利]曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法有效
申请号: | 201080037585.4 | 申请日: | 2010-08-24 |
公开(公告)号: | CN102549501A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 柴崎祐一 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 曹瑾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 方法 以及 组件 制造 | ||
技术领域
本发明是关于曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法,特别是关于在制造诸如半导体组件的微组件的微影制程中所使用的曝光装置及曝光方法、以及使用该曝光方法的组件制造方法。
背景技术
一直以来,于制造诸如半导体组件(如集成电路)和液晶显示组件的电子组件(微组件)的微影制程,主要是使用步进重复(step and repeat)方式的投影曝光装置(所谓的步进机)、或步进扫描(step and scan)方式的投影曝光装置(所谓的扫描步进机(亦称为扫描机))等。
此种曝光装置,随着半导体组件高积体化的组件图案微细化,增加了具有高重迭精度(对准精度)的要求。因此,增加了形成有图案的晶圆或玻璃板等基板的位置测量的更高精度的要求。
作为响应此种要求的装置,例如专利文献1中揭示了一种具备位置测量系统的曝光装置,此位置测量系统是使用搭载在基板台上的多个编码器型传感器(编码器读头)。此曝光装置中,编码器读头在与基板台对向配置的标尺上照射测量光束、并藉由接受来自标尺的返回光束来测量基板台的位置。
然而,具备专利文献1所记载的位置测量系统的曝光装置,在实际的运用上,根据基板台的位置从多个编码器读头中切换和使用与标尺对向的编码器读头。再者,在切换使用的编码器读头时,亦必须确保基板台位置测量结果的连续性。
先行技术文献
[专利文献1]美国专利申请公开第2006/0227309号说明书
发明内容
本发明是在上述情形下完成,并且根据第1方面提供了第1曝光装置,藉由能量束使物体上配置成矩阵状的多个区划区域依序曝光,并且在该多个区划区域上分别形成图案,其装置包括:移动体,保持物体并沿既定平面移动;位置测量系统,具备设于该移动体上的多个读头,根据该多个读头中对与该移动体对向配置成与该既定平面略平行、一部分具有开口的测量面上照射测量光束并接收来自该测量面的返回光束以测量该移动体在各个测量方向的位置的既定数目的读头的测量结果,求出该移动体的位置信息;以及控制系统,根据以该位置测量系统求出的该位置信息驱动该移动体、并视该移动体的位置将用于算出该移动体位置信息的该既定数目的读头的至少一个切换为其它读头;该多个读头中,在该既定平面内在第1方向分离的二个读头的分离距离大于在该第1方向的该开口的宽度。
根据此装置,能视移动体的位置从多个编码器读头中切换使用与标尺对向的编码器读头,以测量移动体的位置信息。
根据本发明第2方面提供了第2曝光装置,其藉由能量束使配置在物体上的多个区划区域依序曝光,并在物体上的该多个区划区域上分别形成图案:该装置包括:移动体,保持物体沿既定平面移动;位置测量系统,具备设于该移动体上的多个读头,在该多个读头中,对与该移动体对向配置并与该既定平面略平行、一部分测量非有效区域的测量面照射测量光束并接收来自该测量面的返回光束以基于测量在各个测量方向的移动体的位置的既定数的读头的测量结果,求出该移动体的位置信息;以及控制系统,根据以该位置测量系统求出的该位置信息,一边切换用于算出该移动体的位置信息的读头、一边驱动该移动体;该多个读头中、在该既定平面内分离于第1方向的二个读头的分离距离,是考虑在既定方向上的该测量非有效区域的尺寸加以确定的。
根据此装置,由于前述二个读头的分离距离是考虑于既定方向的测量非有效区域的尺寸加以适当决定的,因此为了在物体上的受致于形成的区划区域形成图案而使移动体等速在既定方向上移动期间,能在不切换读头的情形下测量移动体的位置信息。因此,能以良好精度将图案形成于物体上。
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