[发明专利]无光饰面聚酰亚胺膜及其相关方法

权利要求书

1.基膜，所述基膜包含：

A.化学转化的聚酰亚胺，其量为所述基膜的71至96重量％，所述化学转化的聚酰亚胺衍生自：

a.基于所述聚酰亚胺的总二酐含量至少50摩尔％的芳族二酐，和

b.基于所述聚酰亚胺的总二胺含量至少50摩尔％的芳族二胺；

B.低电导率炭黑，其以所述基膜的2至9重量％的量存在；以及

C.消光剂，所述消光剂：

a.以所述基膜的1.6至10重量％的量存在，

b.具有1.3至10微米的中值粒度，并且

c.具有2至4.5g/cc的密度。

2.根据权利要求1的基膜，其中：

a.所述芳族二酐选自：

均苯四甲酸二酐、

3，3’，4，4’-联苯四甲酸二酐、

3，3’，4，4’-二苯甲酮四甲酸二酐、

4，4’-氧双邻苯二甲酸酐、

3，3’，4，4’-二苯基砜四甲酸二酐、

2，2-二(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷、

双酚A二酐、以及

它们的混合物；并且

b.芳族二胺选自：

3，4’-二氨基二苯醚、

1，3-二-(4-氨基苯氧基)苯、

4，4’-二氨基二苯醚、

1，4-二氨基苯、

1，3-二氨基苯、

2，2’-二(三氟甲基)联苯胺、

4，4′-二氨基联苯、

4，4’-二氨基联苯基硫化物、

9，9’-二(4-氨基)氟、以及

它们的混合物。

3.根据权利要求1的基膜，其中所述化学转化的聚酰亚胺衍生自均苯四甲酸二酐和4，4’-二氨基二苯醚。

4.根据权利要求1的基膜，其中所述消光剂选自二氧化硅、氧化铝、硫酸钡以及它们的混合物。

5.包括粘合剂层和权利要求1的基膜的多层膜。

6.根据权利要求5的多层膜，其中所述粘合剂层为选自下列的环氧树脂：双酚A型环氧树脂、甲酚酚醛型环氧树脂、含磷环氧树脂、以及它们的混合物。

7.根据权利要求5的多层膜，其中所述多层膜为表护层薄膜。

8.根据权利要求1的基膜，其中所述基膜具有8至152微米的厚度。