[发明专利]窄边框触摸输入薄片及其制造方法以及用于窄边框触摸输入薄片的导电性薄片

说明书

技术领域

本发明涉及适用于窄边框且透明导电膜图案为两层的静电容量式接触传感器的窄边框触摸输入薄片及其制造方法以及用于窄边框触摸输入薄片的导电性薄片。

背景技术

过去，专利文献1公开了下述技术：在透明电极引线端子的各端子上形成金属膜，然后同时对输入面板区域的透明电极图案、引线端子列的金属膜及透明电极进行蚀刻，由此形成触摸输入装置。

如图7所示，上述专利文献1的发明是下述一种方法发明：在聚酯膜30上形成由ITO膜31构成的透明电极，并在其上面图案化形成光致抗蚀膜32，接着用掩模33覆盖光致抗蚀膜32，然后形成由In膜构成的金属膜34，然后拿掉掩模33，并用抗蚀剂剥离液去除光致抗蚀膜32，图案化形成金属膜34。之后，在被图案化的金属膜34上图案化形成第二光致抗蚀膜35(参照图7(e))，然后用氯化铁溶液等同时对金属膜34和ITO膜31进行蚀刻去除，最后用抗蚀剂剥离液去除光致抗蚀膜35。

专利文献1：特开平5-108264号公报

发明内容

然而，专利文献1的方法中，图7(e)的图案化的金属膜34上图案化形成第二光致抗蚀膜35时，掩模33的位置只要有稍微的偏离，就会存在一侧金属膜34变细另一侧金属膜34变粗而金属膜34无法达到所需电阻值的问题。因此，存在此方法不适用于金属膜34必须以细线并其电阻值控制在规定电阻值范围内的窄边框触摸输入薄片的问题。

另外，静电容量式窄边框触摸输入薄片中，通常有必要将X方向上形成的透明导电膜图案和Y方向上形成的透明导电膜图案以夹住绝缘层的方式层压而成。在专利文献1的方法中，由于无法将金属膜及透明电极在两面上对准位置而形成，因此存在必须将制作好的两张窄边框触摸输入薄片通过对准位置而贴合等工序制作的问题。其结果是还存在生产效率降低、透明窗部的透射率降低或者厚度变厚而体积变大的问题。

因此，本发明的目的在于，为了解决所述课题提供一种适用于窄边框且透明导电膜图案为两层的静电容量式接触传感器的窄边框触摸输入薄片及其制造方法以及用于窄边框触摸输入薄片的导电性薄片。

根据本发明的第一方式，提供一种窄边框触摸输入薄片，该窄边框触摸输入薄片包括：透明衬底薄片，一张或者多张衬底薄片层压而成；透明导电膜，形成在所述一张透明衬底薄片外表面及内表面或者所述多张衬底薄片层压而成的透明衬底薄片最外表面及最内表面上；遮光性电极用导电膜，形成在各所述透明导电膜上；第一抗蚀层，形成在各所述遮光性电极用导电膜上，其中，位于所述衬底薄片中央窗部的所述透明导电膜及所述遮光性电极用导电膜通过所述第一抗蚀层的曝光和显像之后的蚀刻，形成位置不偏地层压的所需图案，位于所述衬底薄片外侧边缘部的所述透明导电膜及所述遮光性电极用导电膜通过所述第一抗蚀层的曝光和显像之后的蚀刻，形成位置不偏地层压的细微布线电路图案，通过去除所述第一抗蚀层、进一步蚀刻去除所述中央窗部的所述遮光性电极用导电膜，由此位于所述中央窗部的所述透明导电膜将构成电路图案。

根据本发明的第二方式，提供一种进一步包括覆盖位于所述外侧边缘部的所述透明导电膜及所述遮光性电极用导电膜的第二抗蚀层的、第一方式中所述的窄边框触摸输入薄片。

根据本发明的第三方式，提供一种所述衬底薄片为塑料膜的第一方式或者第二方式中所述的窄边框触摸输入薄片。

根据本发明的第四方式，提供一种所述遮光性电极用导电膜是厚度为20nm～1000nm的铜箔的第一方式至第三方式中任一方式所述的窄边框触摸输入薄片。

根据本发明的第五方式，提供一种窄边框触摸输入薄片为静电容量式窄边框触摸输入薄片的第一方式至第四方式中任一方式所述的窄边框触摸输入薄片。

根据本发明的第六方式，提供一种进一步将透光性保护膜贴合在所述构成的两面上的第一方式至第五方式中任一方式所述的窄边框触摸输入薄片。

根据本发明的第七方式，提供一种所述透光性保护膜由环状烯烃类树脂膜构成的第六方式所述的窄边框触摸输入薄片。

根据本发明的第八方式，提供一种在所述中央窗部的相位差值为20nm以下的第一方式至第七方式中任一方式所述的窄边框触摸输入薄片。

根据本发明的第九方式，提供一种导电性薄片，该导电性薄片包括：透明衬底薄片，一张或者多张衬底薄片层压而成；透明导电膜，形成在所述一张透明衬底薄片外表面及内表面或者所述多张衬底薄片层压而成的透明衬底薄片最外表面及最内表面上；遮光性电极用导电膜，形成在各所述透明导电膜上；第一抗蚀层，形成在各所述遮光性电极用导电膜上。