[发明专利]干膜光致抗蚀剂有效
| 申请号： | 201080043646.8 | 申请日： | 2010-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102549499A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 文熙岏;奉东勋;石想勋 | 申请（专利权）人： | 可隆工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;G03F7/11;G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 黄丽娟;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 干膜光致抗蚀剂 | ||
1.一种干膜光致抗蚀剂，包括层压的基膜、树脂保护层及感光树脂层，上述树脂保护层包括水溶性高分子及烷氧基乙醇。
2.根据权利要求1所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：还包括层压于基膜上的离型层，上述离型层包括从硅树脂、氟树脂及脂肪族蜡中选择的一种以上，而上述树脂保护层包括重量平均分子量为5000～300000的聚乙烯醇。
3.根据权利要求1所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述树脂保护层包括30000ppm以下的烷氧基乙醇。
4.根据权利要求1所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述烷氧基乙醇具有碳数为1～12的烷氧基及碳数为1～12的乙醇。
5.根据权利要求4所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述烷氧基乙醇为丁氧基乙醇。
6.根据权利要求1所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：将上述水溶性高分子溶解于包括水及烷氧基乙醇的溶剂之后，将其涂布于基膜上形成树脂保护层。
7.根据权利要求6所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述溶剂是相对于100重量份的水包括1～43重量份的烷氧基乙醇。
8.根据权利要求1所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述基膜及树脂保护层之间的粘接力为0.0005～0.01N/cm。
9.根据权利要求1所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述树脂保护层相对于100重量份的水溶性高分子包括0.01～3重量份的多晶硅。
10.根据权利要求9所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述多晶硅在从水、乙醇类及它们的混合物中选择的一种溶剂100g中，在80℃的条件下6小时内溶解0.1g的多晶硅时，其粒度为1μm以下。
11.根据权利要求1或2所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述树脂保护层的雾霾为3.0％以下。
12.根据权利要求1或2所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述树脂保护层的每1μm的显像时间为10秒以下。
13.根据权利要求2所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述离型层及树脂保护层之间的粘接力为0.0005～0.01N/cm。
14.根据权利要求1或2所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述树脂保护层的厚度为10μm以下。
15.根据权利要求2所述的干膜光致抗蚀剂，其特征在于：上述聚乙烯醇的皂化度为75～97％。
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