[发明专利]生坯球的抛光方法、陶瓷球的制造方法及抛光装置有效
| 申请号： | 201080044758.5 | 申请日： | 2010-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN102548707A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 早川康武;村松胜利 | 申请（专利权）人： | NTN株式会社 |
| 主分类号： | B24B29/04 | 分类号： | B24B29/04;B24B55/06 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡晓萍 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 生坯 抛光 方法 陶瓷球 制造 装置 | ||
1.一种生坯球(91)的抛光方法，其特征在于，包括：
朝构成抛光装置(1)的第一构件(10)的第一面(11)与第二构件(20)的第二面(21)之间供给生坯球(91)的工序；以及
在所述第一面(11)与所述第二面(21)之间，一边使所述生坯球(91)自转及公转，一边对其进行抛光的工序，
在对所述生坯球(91)进行抛光的工序中，交替地进行在所述第一面(11)及所述第二面(21)与所述生坯球(91)之间一边施加负载一边进行所述生坯球(91)的抛光的工序和通过使所述负载比进行所述生坯球(91)的抛光的工序中的负载小来使所述生坯球(91)的自转轴变化的工序。
2.如权利要求1所述的生坯球(91)的抛光方法，其特征在于，
在使所述生坯球(91)的自转轴变化的工序中，通过对所述第一面(11)及所述第二面(21)施加于所述生坯球(91)的负载进行控制，从而使所述自转轴变化。
3.如权利要求1所述的生坯球(91)的抛光方法，其特征在于，
在使所述生坯球(91)的自转轴变化的工序中，通过对所述第一面(11)与所述第二面(21)之间的间隔进行控制，从而使所述自转轴变化。
4.如权利要求1所述的生坯球(91)的抛光方法，其特征在于，
在对所述生坯球(91)进行抛光的工序中，所述第一构件(10)及所述第二构件(20)形成间隔变化区域(41)，该间隔变化区域(41)中所述第一面(11)与所述第二面(21)之间的间隔比相邻的区域中所述第一面(11)与所述第二面(21)之间的间隔大，
在使所述生坯球(91)的自转轴变化的工序中，所述生坯球(91)进入所述间隔变化区域(41)，从而使所述生坯球(91)的自转轴变化。
5.一种陶瓷球的制造方法，其特征在于，包括：
准备生坯球(91)的工序；
进行所述生坯球(91)的抛光的工序；以及
对抛光后的所述生坯球(91)进行烧结处理的工序，
所述生坯球(91)的抛光是通过权利要求1所述的生坯球(91)的抛光方法来进行的。
6.一种抛光装置(1)，一边利用第一构件(10)及第二构件(20)夹住生坯球(91)，一边进行所述生坯球(91)的抛光，其特征在于，
所述第一构件(10)具有第一面(11)，
所述第二构件(20)具有与所述第一面(11)相对的第二面(21)，
所述生坯球(91)被夹在所述第一面(11)与所述第二面(21)之间，
所述第一面(11)及所述第二面(21)中的至少任一个面包括大间隔区域(21A)，该大间隔区域(21A)与所述第一面(11)及所述第二面(21)中的另一个面的距离比相邻的区域与所述第一面(11)及所述第二面(21)中的另一个面的距离大。
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