[发明专利]由聚亚芳基醚酮制成的箔有效

专利信息
申请号: 201080046018.5 申请日: 2010-10-19
公开(公告)号: CN102575087A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: J.布拉施克;K.吕特策勒;W.青克;R.L.维莱曼;K.萨尔维策克;G.沙费尔 申请(专利权)人: 赢创德固赛有限公司
主分类号: C08L65/00 分类号: C08L65/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 聚亚芳基醚酮 制成
【权利要求书】:

1.成型物料,包括以下组分:

a) 60至96重量份的聚亚芳基醚酮,

b) 2至25重量份的六方氮化硼,和 

c) 2至25重量份的滑石,

其中组分a)、b)和c)的重量份总和为100。

2.根据权利要求1的成型物料,

特征在于

聚亚芳基醚酮为聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酮(PEK)、聚醚酮酮(PEKK),或聚醚醚酮酮(PEEKK)。

3.根据在前权利要求任一项的成型物料,

特征在于

根据ISO 13320,所述氮化硼的d50粒度为至少0.1 μm和至多10 μm,d98粒度为至少0.3 μm和至多20 μm。

4.根据在前权利要求任一项的成型物料,

特征在于

根据ISO 13317,第3部分,所述滑石的d50粒度为至少0.1 μm和至多10 μm,d98粒度为至少0.3 μm和至多20 μm。

5.根据在前权利要求任一项的成型物料,特征在于其还包括硅烷和/或低聚硅氧烷。

6.箔,厚度为5至100 μm,特征在于其包括由根据在前权利要求任一项的成型物料制成的层。

7.根据权利要求6的箔,

特征在于

其还包括金属层。

8.根据权利要求6和7任一项的箔,特征在于所述金属层已经通过层压、电解或借助于真空沉积法施加。

9.根据权利要求7和8任一项的箔,

特征在于

所述金属层由铜或铝组成。

10.根据权利要求6的箔,

特征在于

已经施加导电膏。

11.制造根据权利要求6的箔的方法,

特征在于

其包含以下方法步骤:

a) 熔体混合60至96重量份的聚亚芳基醚酮与2至25重量份的六方氮化硼和2至25重量份的滑石,其中重量份的总和为100重量份,

b) 将熔体在宽缝模具中挤出,和 

c) 将通过挤出成型的箔网幅放置在冷却辊上,使箔固化。

12.根据权利要求11的方法,

特征在于 

所述挤出步骤紧接着配混步骤在同一设备中进行。

13.柔性电路板,其包括根据权利要求6至10任一项的箔,或根据权利要求11和12任一项的制造的箔。

14.根据权利要求6的箔或根据权利要求11和12任一项的制造的箔用于电缆绝缘、用作电容器的绕线箔或用作光电元件的盖箔或者载体箔的用途。

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