[发明专利]由聚亚芳基醚酮制成的箔有效
申请号: | 201080046018.5 | 申请日: | 2010-10-19 |
公开(公告)号: | CN102575087A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | J.布拉施克;K.吕特策勒;W.青克;R.L.维莱曼;K.萨尔维策克;G.沙费尔 | 申请(专利权)人: | 赢创德固赛有限公司 |
主分类号: | C08L65/00 | 分类号: | C08L65/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 石克虎;林森 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚亚芳基醚酮 制成 | ||
1.成型物料,包括以下组分:
a) 60至96重量份的聚亚芳基醚酮,
b) 2至25重量份的六方氮化硼,和
c) 2至25重量份的滑石,
其中组分a)、b)和c)的重量份总和为100。
2.根据权利要求1的成型物料,
特征在于
聚亚芳基醚酮为聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酮(PEK)、聚醚酮酮(PEKK),或聚醚醚酮酮(PEEKK)。
3.根据在前权利要求任一项的成型物料,
特征在于
根据ISO 13320,所述氮化硼的d50粒度为至少0.1 μm和至多10 μm,d98粒度为至少0.3 μm和至多20 μm。
4.根据在前权利要求任一项的成型物料,
特征在于
根据ISO 13317,第3部分,所述滑石的d50粒度为至少0.1 μm和至多10 μm,d98粒度为至少0.3 μm和至多20 μm。
5.根据在前权利要求任一项的成型物料,特征在于其还包括硅烷和/或低聚硅氧烷。
6.箔,厚度为5至100 μm,特征在于其包括由根据在前权利要求任一项的成型物料制成的层。
7.根据权利要求6的箔,
特征在于
其还包括金属层。
8.根据权利要求6和7任一项的箔,特征在于所述金属层已经通过层压、电解或借助于真空沉积法施加。
9.根据权利要求7和8任一项的箔,
特征在于
所述金属层由铜或铝组成。
10.根据权利要求6的箔,
特征在于
已经施加导电膏。
11.制造根据权利要求6的箔的方法,
特征在于
其包含以下方法步骤:
a) 熔体混合60至96重量份的聚亚芳基醚酮与2至25重量份的六方氮化硼和2至25重量份的滑石,其中重量份的总和为100重量份,
b) 将熔体在宽缝模具中挤出,和
c) 将通过挤出成型的箔网幅放置在冷却辊上,使箔固化。
12.根据权利要求11的方法,
特征在于
所述挤出步骤紧接着配混步骤在同一设备中进行。
13.柔性电路板,其包括根据权利要求6至10任一项的箔,或根据权利要求11和12任一项的制造的箔。
14.根据权利要求6的箔或根据权利要求11和12任一项的制造的箔用于电缆绝缘、用作电容器的绕线箔或用作光电元件的盖箔或者载体箔的用途。
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