[发明专利]用于控制涂覆沉积的方法和设备

权利要求书

1.一种用于控制涂覆沉积工艺的方法，其中至少在涂覆沉积工艺的一个阶段，涂覆前体或反应产物中的至少一种包含气体、蒸气或气溶胶，该方法包括监测超细颗粒和根据该监测调节至少一个工艺参数。

2.权利要求1的方法，其中所述涂覆沉积工艺是化学气相沉积(CVD)工艺。

3.权利要求1的方法，其中所述涂覆工艺是工艺。

4.权利要求1的方法，其中所述涂覆工艺是燃烧沉积工艺。

5.如权利要求2-4中任一项的方法，该方法包括根据颗粒监测信号调节前体混合物浓度。

6.如权利要求2-4中任一项的方法，该方法包括根据所测量的颗粒浓度调节至少一个前体温度。

7.权利要求1的方法，其中所述涂覆沉积工艺是原子层沉积(ALD)工艺。

8.权利要求7的方法，该方法包括在至少一个前体循环期间监测超细颗粒浓度。

9.权利要求7或8的方法，该方法包括在清洗循环期间监测超细颗粒浓度。

10.如权利要求7-9中任一项的方法权利要求，该方法包括根据所测量的颗粒浓度调节清洗循环的长度。

11.前述权利要求中任一项的方法，该方法包括用电称低压冲击器测量颗粒浓度。

12.前述权利要求中任一项的方法，该方法包括通过获得样品流、将该样品流与基本上纯净的带电气体混合并且测量颗粒携带的电流来测量颗粒浓度。

13.前述权利要求中任一项的方法，该方法包括根据所测量的颗粒浓度调节反应器室表面的至少一部分的温度。

14.所提出的权利要求中任一项的方法，其中该方法用于在玻璃上产生基本上不混浊的涂层。

15.所提出的权利要求中任一项的方法，其中该方法用于在玻璃上生产混浊的透明氧化物涂层。

16.一种用于控制涂覆沉积工艺的设备，该设备包含用于监测超细颗粒的装置(13)和用于根据该监测调节至少一个工艺参数的装置(14)。