[发明专利]放射线敏感性树脂组合物以及层间绝缘膜的形成方法

权利要求书

1.放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有[A]碱可溶性树脂、[B]1,2-醌二叠氮化合物以及[C]自由基捕获剂。

2.权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，上述[C]自由基捕获剂是选自由受阻酚化合物、受阻胺化合物、烷基磷酸酯化合物和含硫原子的化合物组成的组中的至少一种。

3.权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，上述[A]碱可溶性树脂为(a1)与(a2)的共聚物，其中，(a1)为选自由不饱和羧酸和不饱和羧酸酐组成的组中的至少一种，(a2)为选自由含环氧基的不饱和化合物、甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸环状烷基酯、丙烯酸烷基酯、丙烯酸环状烷基酯、甲基丙烯酸芳基酯、丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、具有羟基的甲基丙烯酸酯、双环不饱和化合物、马来酰亚胺化合物、不饱和芳族化合物、共轭二烯、下式(I)所示的含酚式羟基的不饱和化合物：

式(I)中，R¹为氢原子或碳原子数1-4的烷基，R²-R⁶各自独立地为氢原子、羟基或碳原子数1-4的烷基，B为单键、-COO-或-CONH-，m为0-3的整数，其中，R²-R⁶的至少一个为羟基，-COO-和-CONH-的键合的方向任意；

以及具有四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架或下式(II)所示的骨架的不饱和化合物：

式(II)中，R⁷为氢原子或甲基；

组成的组中的至少一种。

4.权利要求3所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，上述[A]碱可溶性树脂中，基于分别由化合物(a1)和化合物(a2)衍生的重复单元的合计，由化合物(a1)衍生的构成单元的含有比例是5-40%质量。

5.权利要求1-4中任一项所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，上述[B]1,2-醌二叠氮化合物的使用比例是相对于100质量份[A]碱可溶性树脂为5-100质量份，上述[C]自由基捕获剂的使用比例是相对于100质量份[A]碱可溶性树脂为0.1-30质量份。

6.权利要求1-4中任一项所述的放射线敏感性树脂组合物，该组合物用于形成层间绝缘膜。

7.层间绝缘膜的形成方法，其特征在于，按照以下所述顺序包含以下所述工序：

(1) 在基板上涂布权利要求6所述的放射线敏感性树脂组合物，形成涂膜的工序，

(2) 对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序，

(3) 显影工序，以及

(4) 加热工序。

8.液晶显示元件，其特征在于，具备由权利要求6所述的放射线敏感性树脂组合物形成的层间绝缘膜。

9.权利要求1-4中任一项所述的放射线敏感性树脂组合物，该组合物用于形成液晶显示元件的平坦化膜、保护膜或有机绝缘膜。