[发明专利]用于源和掩模优化的图案选择方法有效
申请号: | 201080048248.5 | 申请日: | 2010-10-26 |
公开(公告)号: | CN102597872A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 刘华玉;李江伟;李志潘;陈洪;陈洛祁;张幼平;叶军;蔡明村;陆颜文 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 优化 图案 选择 方法 | ||
1.一种选择与设计相关的图案子组的方法,其中设计或设计的修正被配置成通过光刻过程成像到衬底上,其中图案子组构成所述设计的预定表示,所述方法包括下列步骤:
识别与所述设计的预定表示相关的图案组,
将所述图案组分组和/或分类,
限定与所述分组和/或分类相关的阈值,和
从所述图案组中选择图案子组,其中所述图案子组包括来自所述图案组中的高于或低于所述阈值的图案。
2.如权利要求1所述的选择图案子组的方法,其中识别图案组的步骤包括:
识别与所述设计相关的片段组;
从所述设计识别图案以构成所述图案组的至少部分;
从所述设计自动地识别图案以构成所述图案组的至少部分。
3.如权利要求1所述的选择图案子组的方法,其中选择图案子组的步骤包括:
从所述图案组选择片段作为片段组,所述图案子组包括所选定的片段;
从所述设计自动提取图案,所述图案子组包括自动提取的图案;
从所述设计手动提取图案,所述图案子组包括手动提取的图案。
4.如权利要求1所述的选择图案子组的方法,其中用于识别所述图案组的设计的预定表示包括下列中的一个或多个:
-由所述设计的图案产生的衍射级;
-所述设计中存在的一个或多个图案类型;
-所述设计中存在的图案的复杂度;
-在光刻过程期间所述设计中存在的图案的要求的特定关注和/或验证;
-所述设计中图案的过程窗口性能;
-对所述设计中存在的图案的过程参数变化的预定敏感度。
5.如权利要求3所述的选择图案子组的方法,用于识别所述图案组的所述设计的预定表示包括在所述设计中的图案的过程窗口性能,其中图案子组包括基本上对应所述设计的过程窗口性能的过程窗口性能。
6.如权利要求3所述的选择图案子组的方法,用于识别所述图案组的所述设计的预定表示包括在所述设计中的图案的过程窗口性能,其中图案子组包括所述图案的热斑点,所述图案来自限定所述设计的过程窗口性能的所述图案组。
7.如权利要求5或6所述的选择图案子组的方法,其中所述方法还包括用于从所述图案组识别所述图案的至少部分的过程窗口性能的数值模型化方法。
8.如权利要求1所述的选择图案子组的方法,其中所述分组和/或分类包括根据下列中的一个或多个分组和/或分类:
-与所述设计的预定表示相关的参数;
-与所述设计的预定表示相关的函数;
-与所述设计的预定表示相关的规则。
9.如权利要求1所述的选择图案子组的方法,其中所述阈值包括下列中的一个或多个:
-严重度分数水平;
-过程窗口参数;
-来自预定数量组的图案的每一个组的多个图案,所述预定数量组的图案通过将所述图案组分组的步骤产生;
-来自分类级中的分类的图案的预定数量的图案;
-图案中的结构的尺寸;
-在所述设计或所述图案组中多次出现的图案;
-与所述设计相关的临界的图案。
10.如权利要求1所述的选择图案子组的方法,
其中识别图案组的步骤包括计算用于所述设计的图案的衍射级分布的步骤,和
其中将所述图案组分组和/或分类的步骤包括基于计算的衍射级分布将所述图案组分组为多个组,和
其中选择图案子组的步骤包括从多个组选择一个或多个图案作为子组。
11.如权利要求1所述的选择图案子组的方法,
其中识别图案组的步骤包括识别一个或多个存储图案,和
其中所述方法还包括对于一个或多个存储图案预优化光刻工具的照射源用于将所述设计成像到衬底上步骤,和
其中将所述图案组分组和/或分类的步骤包括使用预优化的照射源确定所述设计中的潜在热斑点,和
其中选择图案子组的步骤包括基于所确定的潜在热斑点选择子组。
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