[发明专利]表面处理组合物、表面处理组合物的制造方法和表面经处理的物品有效

专利信息
申请号: 201080050721.3 申请日: 2010-11-10
公开(公告)号: CN102666759A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: G·赫尔维;P-J·卡尔巴;唐·李·克莱尔;林正之;彼得·谢舍尔·胡佩费尔德;吉田知弘;伊丹康雄;前田昌彦;桝谷哲也 申请(专利权)人: 依视路国际集团(光学总公司);道康宁公司;大金工业株式会社
主分类号: C09D183/12 分类号: C09D183/12;C07F7/08;G02C7/02;G02B1/10;C08G65/00;C08G65/336;G02B1/11
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;庞东成
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 表面 处理 组合 制造 方法 物品
【权利要求书】:

1.一种表面处理组合物,所述表面处理组合物包含由通式(A)表示的有机硅化合物:

F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o-(CH2)p-X-(CH2)r-C3H6-Si(X')3-a(R1)a  (A)

其中q是1~3的整数;m、n和o独立地为0~200的整数;p为1或2;X是氧或二价有机基团;r为0~17的整数;R1是不具有不饱和脂族键的直链或支化的C1-22烃基;a为0~2的整数;并且X'是可水解基团,

其中,在所述表面处理组合物中由以下通式(B)和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面处理组合物为小于25摩尔%:

F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o-F  (B)

其中q、m、n和o与上述相同,

F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o-(CH2)p-X-(CH2)r-CH=CHCH3  (C)

其中q、m、n、o、p、r和X与上述相同。

2.如权利要求1所述的表面处理组合物,其中,在通式(A)中,所述可水解基团X'是选自烷氧基(-OR)和烷氨基(-NHR或-NR2)中的至少一种基团,其中R独立地为C1~C22直链或支化的烷基,并且两个R基团能够形成环状胺,整数a为0。

3.如权利要求1或2所述的表面处理组合物,其中,在通式(A)中,所述可水解基团X'是烷氨基(-NHR或-NR2),其中R与上述相同,并且整数a为0。

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